[实用新型]一种自动出料的系统

权利要求书

1.一种自动出料的系统，用于含硅薄膜的制备，其特征在于，包括：第一机械手、反应炉、控制器、与所述的控制器相连接的温度传感器，所述的温度传感器设置于所述的反应炉中，所述的控制器能控制所述的第一机械手的启动或停止，所述的第一机械手用于抓取所述的反应炉中的含硅薄膜于预设位置。

2.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述的含硅薄膜厚度为400nm～780nm。

3.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述的控制器包括控制面板及微处理器，在所述的控制面板上设置与所述的微处理器相连接的启动第一机械手的按钮及停止第一机械手的按钮，所述的微处理器与所述的第一机械手的驱动电路相连。

4.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述的反应炉具有可闭合密封或打开的开口，所述的开口与所述的第一机械手对应设置。

5.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述的预设位置为容纳盒。

6.根据权利要求5所述的系统，其特征在于，所述的系统还包括第二机械手、传送带、电机，所述的电机驱动所述的传送带运转，所述的第一机械手将所述的含硅薄膜投放于所述的传送带的始端，设置于所述的传送带的末端的第二机械手将传送过来的含硅薄膜投入到所述的容纳箱中。