[实用新型]一种改进的气相沉积炉

说明书

一种改进的气相沉积炉,它涉及气相沉积设备领域，具体涉及一种改进的气相沉积炉，它包含炉体、保温层、加热装置、第一炉膛、第二炉膛、第一沉积室、第一进气管、第一排气管、第二沉积室、第二进气管、第二排气管、主排气管，第一炉膛内设置有第一沉积室，第一进气管穿过炉体的底部炉壁并伸进第一沉积室内，第一排气管的进气端穿过炉体的顶部炉壁并伸进第一沉积室内，第二炉膛内设置有第二沉积室，第二进气管穿过炉体的底部炉壁并伸进第二沉积室内，第二排气管的进气端穿过炉体的顶部炉壁并伸进第二沉积室内。采用上述技术方案后，本实用新型有益效果为：它设置有多个沉积室，提高了生产效率，而且废气净化结构更加合理化。

技术领域

本实用新型涉及气相沉积设备领域，具体涉及一种改进的气相沉积炉。

背景技术

气相沉积技术是利用气相中发生的物理、化学过程，在工件表面形成功能性或装饰性的金属、非金属或化合物涂层。气相沉积技术按照成膜机理，可分为化学气相沉积、物理气相沉积和等离子体气相沉积。

化学气相沉积：将工件置于反应室中，抽真空并加热至900~1100℃。如要涂覆TiC层，则将钛以挥发性氯化物(如TiCl4)与气体碳氢化合物(如CH4)一起通入反应室内，这时就会在工表面发生化学反应生成TiC，并沉积在工件表面形成6~8μm厚的覆盖层。工件经气相沉积镀覆后，再进行淬火，回火处理，表面硬度可达到2000~4000HV。

物理气相沉积：通过蒸发，电离或溅射等过程，产生金属粒子并与反应气体反应形成化合物沉积在工件表面。物理气象沉积方法有真空镀，真空溅射和离子镀三种，目前应用较广的是离子镀。

等离子体气相沉积：离子镀是借助于惰性气体辉光放电，使镀料(如金属钛)气化蒸发离子化，离子经电场加速，以较高能量轰击工件表面，此时如通入CO2，N2等反应气体，便可在工件表面获得TiC,TiN覆盖层，硬度高达2000HV。离子镀的重要特点是沉积温度只有500℃左右，且覆盖层附着力强，适用于高速钢工具，热锻模等。

但是，现有技术下的气相炉一般只设置有一个沉积室，导致工作效率低下，而且尾气处理技术还不够成熟。

实用新型内容

本实用新型的目的在于针对现有技术的缺陷和不足，提供一种改进的气相沉积炉，它设置有多个沉积室，提高了生产效率，而且废气净化结构更加合理化。

为实现上述目的，本实用新型采用以下技术方案是：它包含炉体1、保温层2、加热装置3、第一炉膛4、第二炉膛5、第一沉积室6、第一进气管7、第一排气管8、第二沉积室9、第二进气管10、第二排气管11、主排气管12，炉体1的两侧炉壁设置有保温层2，炉体1内均匀设置有三组加热装置3，三组加热装置3将炉体1的内腔分为第一炉膛4和第二炉膛5两个部分，第一炉膛4内设置有第一沉积室6，第一进气管7穿过炉体1的底部炉壁并伸进第一沉积室6内，第一排气管8的进气端穿过炉体1的顶部炉壁并伸进第一沉积室6内，第一排气管8的出气端与主排气管12连通，第二炉膛5内设置有第二沉积室9，第二进气管10穿过炉体1的底部炉壁并伸进第二沉积室9内，第二排气管11的进气端穿过炉体1的顶部炉壁并伸进第二沉积室9内，第二排气管11的出气端与主排气管12连通。

所述的第一沉积室6、第二沉积室9的结构大小完全相同。采用此种结构炉体1内的空间布局更加合理，同时也方便统一规格制造沉积炉，使沉积炉的外形整齐且美观。

所述的第一炉膛4、第一沉积室6、第一进气管7、第一排气管8的中心轴处于同一直线上，所述的第二炉膛5、第二沉积室9、第二进气管10、第二排气管11的中心轴处于同一直线上。采用此种结构使得炉体1内的各部件结构更加紧凑整齐。

所述的第一进气管7和第二进气管10上均设置有流量控制阀13。流量控制阀13的作用在于可根据产品要求控制物料的流量大小。