[实用新型]一种激光放大装置

说明书

本实用新型提供了一种激光放大装置，包括反射腔及射频电场聚焦器，所述反射腔内充满发光气体；所述反射腔至少一部分位于所述射频电场聚焦器的能量聚焦范围内；所述反射腔外壁设有供激光通过的狭缝。本实用新型的有益效果是：利用高反射环形反射腔取代传统的直线谐振腔，解决了在深紫外区域没有合适透过窗口片的问题，使得深紫外激光通过多次反射共振实现放大；能够通过调整入射激光的入射角度或狭缝的大小，精确控制激光反射路径，实现激光器的高品质因子调节，且调节范围远大于传统的激光谐振腔。

技术领域

本实用新型涉及激光技术领域，特别涉及一种激光放大装置。

背景技术

目前实现极紫外光刻(EUV)光源的方案主要有三种：同步辐射源；激光等离子体EUV光源；放电等离子体EUV光源。

同步辐射光源是基于高能电子环形加速器而发展起来的新型人造光源。同步辐射源X射线光源是目前亮度最高的X射线源，具有输出能量大、稳定性强、直线性好、光源干净等优点。但这种X射线源需要建造耗资在1500～2000万美元的电子直线加速器和电子储存环，造价昂贵，工作条件苛刻，实验操作复杂，不适于大规模工业生产。

激光等离子体EUV光源产生EUV光的原理是用高能激光照射在包括氙或锡靶材，通过激发得到高能电离等离子体。近年来由于CO2激光器具有更高的能量转换效率，并且具有成本低、光束质量好的优点，人们逐渐将驱动激光从1.06μm的Nd:YAG激光器转移到10.6μm的CO2激光器。CO2激光器主要是通过高功率的CO2激光器轰击高密度的靶(Xe、Sn、Li)产生高温稠密的等离子体，从而激发波长为13.5nm的极紫外辐射光，虽然CO2激光器的临界密度很低保证了其具有较小的自吸收，但密度过低也影响了EUV光的发生。

放电等离子体EUV光源技术是在放电气体中加入脉冲高电压，产生等离子体，释放极紫外光，是将电能直接转化为等离子体能，能够提高了能量转换效率，装置比较简化，投资及运营成本低，易于操作维护。但是由于管壁和电极的烧蚀，放电等离子体光源产生的残片较多，容易对EUV光学收集系统造成污染。同时在高重复频率气体放电过程中，电极和毛细管壁会沉积大量的热量，影响毛细管电极寿命。

发明内容

本实用新型要解决的技术问题是如何高效、便捷地对激光进行放大。

为了解决上述技术问题，本实用新型中披露了一种激光放大装置，本实用新型的技术方案是这样实施的：

一种激光放大装置，包括反射腔及射频电场聚焦器，所述反射腔内充有发光气体；所述反射腔至少一部分位于所述射频电场聚焦器的能量聚焦范围内；所述反射腔设有供激光通过的狭缝。

优选地，所述反射腔为环形反射腔，所述反射腔的外侧设有凸起，所述凸起与所述反射腔连通，且所述射频电场聚焦器与所述凸起相对。

优选地，所述反射腔腔体结构为环形管结构。

优选地，所述激光放大装置还包括用于密封所述狭缝的窗口片，激光可透过所述窗口片。

优选地，所述狭缝为可调狭缝。

优选地，所述狭缝宽度可在10μm到1mm范围内进行调节。

优选地，所述凸起的数量为一个以上，所述射频电场聚焦器的数量与所述凸起的相同；所述激光放大装置还包括支架，所述射频电场聚焦器被固定于所述支架上，与所述凸起相对，所述支架环绕放置于所述反射腔外。

优选地，所述反射腔设有进气口及出气口。

优选地，所述反射腔内壁镀有对激光有高反射的金属层。

优选地，所述反射腔的材质为石英。

实施本实用新型的有益效果是：