[实用新型]一种提高矩形平面磁控溅射阴极靶磁场均匀性装置有效
| 申请号： | 201820897772.3 | 申请日： | 2018-06-11 |
| 公开（公告）号： | CN208545485U | 公开（公告）日： | 2019-02-26 |
| 发明（设计）人： | 洪明;陈飞鹏;骆水连;刘强;魏广;秦丽丽;李亚丽;夏成明 | 申请（专利权）人： | 兰州空间技术物理研究所 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/54 |
| 代理公司： | 北京理工大学专利中心 11120 | 代理人： | 张洁;仇蕾安 |
| 地址： | 730000 甘*** | 国省代码： | 甘肃;62 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 支撑部件 磁控溅射阴极 磁轭 本实用新型 磁场均匀性 矩形平面 微调装置 永磁体 磁控溅射镀膜设备 磁场分布 磁控溅射 方便调节 不均匀 穿过 室内 | ||
【权利要求书】：
1.一种提高矩形平面磁控溅射阴极靶磁场均匀性装置，其特征在于：所述装置包括永磁体(1)、磁轭(2)、微调装置(3)和支撑部件(4)；所述永磁体(1)固定在磁轭(2)上，支撑部件(4)与磁控溅射腔室壁固定，支撑部件(4)上开设有孔，微调装置(3)穿过支撑部件(4)上的孔与磁轭(2)接触。
2.如权利要求1所述的一种提高矩形平面磁控溅射阴极靶磁场均匀性装置，其特征在于：所述微调装置(3)为旋转式微调装置。
3.如权利要求1所述的一种提高矩形平面磁控溅射阴极靶磁场均匀性装置，其特征在于：所述微调装置包括上固定件(31)、上固定螺丝(32)、下固定螺丝(33)、下固定件(34)和旋转微调部件(35)；上固定件(31)通过上固定螺丝(32)与磁轭(2)固定，下固定件(34)通过下固定螺丝(33)与支撑部件(4)固定，旋转微调部件(35)穿过支撑部件(4)与磁轭接触。
4.如权利要求1所述的一种提高矩形平面磁控溅射阴极靶磁场均匀性装置，其特征在于：所述微调装置(3)为多点式连接，均匀分布在磁轭(2)的中心和边沿处。
5.如权利要求1所述的一种提高矩形平面磁控溅射阴极靶磁场均匀性装置，其特征在于：所述微调装置(3)平行于磁轭(2)矩形平面方向呈多排分布。
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