[实用新型]一种蒸发镀膜装置

说明书

本实用新型公开了一种蒸发镀膜装置，属于真空蒸镀领域。该蒸发镀膜装置包括：腔体、设置在腔体内的加热器，腔体的顶壁上设置有多个出气孔。此外，该蒸发镀膜装置还包括：与出气孔连通的排气件，排气件沿待蒸镀物体的长度方向均匀设置有多个与待蒸镀物体相对的蒸镀孔。设置在排气件上的多个调节件，该调节件用于调节蒸镀孔的开度。本实用新型提供的蒸发镀膜装置，在节约成本的同时，可以不断调整蒸镀孔的开度，进而调整每个蒸镀孔的蒸汽排量，使待蒸镀物体表面的膜层厚度保持一致，即，使喷射至待蒸镀物体表面的蒸汽更加均匀。

技术领域

本实用新型涉及真空蒸镀领域，特别涉及一种蒸发镀膜装置。

背景技术

在进行真空蒸镀作业时，需要通过蒸发源将蒸镀材料加热蒸发(或升华) 为蒸汽，使蒸汽在待蒸镀物体表面凝结后形成膜层。在此过程中，蒸汽能否均匀地喷射至待蒸镀物体表面，对所形成膜层的质量起着重要作用。

目前，如附图1所示，蒸发源一般包括：腔体1、设置在腔体1内的加热器，其中，腔体1的顶壁上设置有多个出气孔101，加热器用于将蒸镀材料加热蒸发，使蒸发产生的蒸汽通过出气孔101喷射至待蒸镀物体X表面，蒸汽在待蒸镀物体X表面凝结后形成膜层。此时，出气孔101与待蒸镀物体X之间的距离为d1，该距离可以满足蒸镀作业过程中的蒸镀效率和材料利用率，但是，如果待蒸镀物体X表面的面积较大，则该距离无法保证蒸汽对待蒸镀物体X表面中部与两侧喷射的均匀性。如附图2所示，当将出气孔101与待蒸镀物体X之间的距离增大至d2时，虽然可以实现对较大面积的待蒸镀物体X表面的蒸镀作业，但是，此时自出气孔101喷出的蒸汽会发生大量交叠，仍然无法保证蒸汽对待蒸镀物体X表面中部与两侧喷射的均匀性。如附图3所示，当出气孔101与待蒸镀物体X之间的距离仍然为d1时，在待蒸镀物体X的下方均匀间隔设置多个蒸发源(如2个、3个、4个等)，使多个蒸发源中产生的蒸汽可以均匀喷射至待蒸镀物体X的表面。通过如此设置，虽然可以保证蒸汽均匀喷射至待蒸镀物体X表面，但是，使用多个蒸发源会增加作业成本。

因此，在节约成本的前提下，提供一种能够对表面积较大的待蒸镀物体X 均匀蒸镀的蒸发镀膜装置是十分重要的。

实用新型内容

本实用新型实施例提供了一种蒸发镀膜装置，可解决上述技术问题。具体技术方案如下：

本实用新型实施例提供了一种蒸发镀膜装置，包括：腔体、设置在所述腔体内的加热器，所述腔体的顶壁上设置有多个出气孔；

所述装置还包括：与所述出气孔连通的排气件，所述排气件沿待蒸镀物体的长度方向均匀设置有多个与所述待蒸镀物体相对的蒸镀孔；

设置在所述排气件上的多个调节件，所述调节件用于调节所述蒸镀孔的开度。

在一种可能的设计中，所述调节件包括：顺次连接的调整旋钮、活动件和遮挡件；

所述调整旋钮用于驱动所述活动件作往复运动；

所述遮挡件用于在所述活动件的带动下改变对所述蒸镀孔的遮挡面积。

在一种可能的设计中，所述装置还包括：膜厚测试仪，用于获取所述待蒸镀物体上的膜层厚度信息；

控制系统，与所述膜厚测试仪电连接，用于根据所述膜层厚度信息，控制所述蒸镀孔的开度，使所述待蒸镀物体上的膜层厚度保持一致。

在一种可能的设计中，所述调节件为挡板结构，可转动地设置在所述排气件上，用于改变对所述蒸镀孔的遮挡面积。

在一种可能的设计中，所述排气件包括：管式本体；

所述管式本体的顶壁上设置有多个所述蒸镀孔，底壁上设置有多个与所述出气孔连通的对接孔。

在一种可能的设计中，所述出气孔的上端设置有凸块，所述凸块可拆卸地设置在所述对接孔内。