[实用新型]基板清洗装置有效

专利信息
申请号: 201820959932.2 申请日: 2018-06-21
公开(公告)号: CN208555227U 公开(公告)日: 2019-03-01
发明(设计)人: 杨金贵;刘家桦;叶日铨 申请(专利权)人: 德淮半导体有限公司
主分类号: B08B3/02 分类号: B08B3/02;B08B3/08;B08B5/02
代理公司: 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 代理人: 王宏婧
地址: 223300 江苏*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 喷头 基板清洗装置 供给管路 喷嘴 喷杆 本实用新型 载台 集中设置 晶圆 伸入 承载
【权利要求书】:

1.一种基板清洗装置,其特征在于,包括:用于承载基板的载台、位于所述载台一侧的喷头、与所述喷头连接的喷杆以及多个供给管路,所述喷头具有多个喷嘴,多个所述供给管路均伸入到所述喷杆内部,且每个所述喷嘴至少与一条所述供给管路连接。

2.如权利要求1所述的基板清洗装置,其特征在于,多个所述喷嘴在同时进行清洗工作时距离所述载台的高度不同。

3.如权利要求1所述的基板清洗装置,其特征在于,所述喷嘴和所述供给管路的数量均为三个,三个所述喷嘴呈直线排布在喷嘴所在喷头的表面上,或者三个所述喷嘴呈三角形排布在喷嘴所在喷头的表面上。

4.如权利要求1所述的基板清洗装置,其特征在于,多个所述喷嘴均为可伸缩结构。

5.如权利要求4中所述的基板清洗装置,其特征在于,多个所述喷嘴上均设置有螺纹。

6.如权利要求1至5中任一项中所述的基板清洗装置,其特征在于,每个所述喷嘴具有一门结构,在所述喷嘴不进行清洗工作时,所述门结构封闭所述喷嘴的喷射口。

7.如权利要求1至5中任一项所述的基板清洗装置,其特征在于,多个所述供给管路分别连接去离子水供给装置、氮气供给装置以及化学药剂供给装置。

8.如权利要求1至5中任一项中所述的基板清洗装置,其特征在于,至少部分所述供给管路上设置有流量计。

9.如权利要求1至5中任一项中所述的基板清洗装置,其特征在于,每个所述喷嘴与一个所述供给管路连接。

10.如权利要求1至5中任一项中所述的基板清洗装置,其特征在于,所述基板清洗装置为晶圆清洗装置。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于德淮半导体有限公司,未经德淮半导体有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201820959932.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top