[实用新型]基板清洗装置有效
申请号: | 201820959932.2 | 申请日: | 2018-06-21 |
公开(公告)号: | CN208555227U | 公开(公告)日: | 2019-03-01 |
发明(设计)人: | 杨金贵;刘家桦;叶日铨 | 申请(专利权)人: | 德淮半导体有限公司 |
主分类号: | B08B3/02 | 分类号: | B08B3/02;B08B3/08;B08B5/02 |
代理公司: | 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 | 代理人: | 王宏婧 |
地址: | 223300 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 喷头 基板清洗装置 供给管路 喷嘴 喷杆 本实用新型 载台 集中设置 晶圆 伸入 承载 | ||
1.一种基板清洗装置,其特征在于,包括:用于承载基板的载台、位于所述载台一侧的喷头、与所述喷头连接的喷杆以及多个供给管路,所述喷头具有多个喷嘴,多个所述供给管路均伸入到所述喷杆内部,且每个所述喷嘴至少与一条所述供给管路连接。
2.如权利要求1所述的基板清洗装置,其特征在于,多个所述喷嘴在同时进行清洗工作时距离所述载台的高度不同。
3.如权利要求1所述的基板清洗装置,其特征在于,所述喷嘴和所述供给管路的数量均为三个,三个所述喷嘴呈直线排布在喷嘴所在喷头的表面上,或者三个所述喷嘴呈三角形排布在喷嘴所在喷头的表面上。
4.如权利要求1所述的基板清洗装置,其特征在于,多个所述喷嘴均为可伸缩结构。
5.如权利要求4中所述的基板清洗装置,其特征在于,多个所述喷嘴上均设置有螺纹。
6.如权利要求1至5中任一项中所述的基板清洗装置,其特征在于,每个所述喷嘴具有一门结构,在所述喷嘴不进行清洗工作时,所述门结构封闭所述喷嘴的喷射口。
7.如权利要求1至5中任一项所述的基板清洗装置,其特征在于,多个所述供给管路分别连接去离子水供给装置、氮气供给装置以及化学药剂供给装置。
8.如权利要求1至5中任一项中所述的基板清洗装置,其特征在于,至少部分所述供给管路上设置有流量计。
9.如权利要求1至5中任一项中所述的基板清洗装置,其特征在于,每个所述喷嘴与一个所述供给管路连接。
10.如权利要求1至5中任一项中所述的基板清洗装置,其特征在于,所述基板清洗装置为晶圆清洗装置。
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