[实用新型]基板研磨装置

权利要求书

1.一种基板研磨装置，其特征在于，其包括：

基板移送部，其以使得基板的被研磨面朝向上部的状态移送所述基板；以及

研磨模块，其设置于所述基板的上部，在与所述基板表面接触的状态下，研磨垫进行旋转的同时进行线性移动，从而研磨所述基板。

2.根据权利要求1所述的基板研磨装置，其特征在于，

所述研磨垫具有比所述基板小的大小，

所述研磨垫通过以其中心为基准的自转、与所述基板表面平行的圆轨道旋转或椭圆轨道旋转中任意一种以上的操作来进行旋转。

3.根据权利要求2所述的基板研磨装置，其特征在于，

所述研磨模块在所述基板上进行往返线性移动或Z字形态的线性移动，或者

所述基板相对于所述研磨模块进行往返线性移动或Z字形态的线性移动。

4.一种基板研磨装置，其特征在于，其包括：

研磨模块，其在基板的被研磨面朝向上部的状态下设置于所述基板的上部，包括用于研磨所述基板的研磨垫；

所述研磨垫在与所述基板的被研磨面接触的状态下进行自转的同时进行往返线性移动，从而研磨所述基板，并且所述研磨垫以移动的轨迹重叠的形式进行移动。

5.根据权利要求4所述的基板研磨装置，其特征在于，

所述研磨模块在所述基板上沿着第一轴方向进行往返线性移动，

所述研磨模块沿着与所述第一轴垂直的第二轴方向进行移动的轨迹所重叠的面积是一定的。

6.根据权利要求4所述的基板研磨装置，其特征在于，

还包括基板移送部，基板移送部以使得所述基板的被研磨面朝向上部的状态移送所述基板，

所述研磨模块仅沿着第一轴方向进行往返线性移动，

所述基板移送部使得所述基板沿着第二轴方向进行线性移动。

7.根据权利要求6所述的基板研磨装置，其特征在于，

所述研磨模块在所述第二轴方向上的移动距离比所述研磨垫的尺寸小。

8.根据权利要求6所述的基板研磨装置，其特征在于，

所述研磨模块的所述重叠的面积比所述研磨垫的面积小。

9.根据权利要求4所述的基板研磨装置，其特征在于，

所述研磨垫具有比所述基板小的大小，

所述研磨模块通过以其中心为基准的自转、与所述基板表面平行的圆轨道旋转或椭圆轨道旋转中任意一种以上的操作来进行旋转。

10.根据权利要求9所述的基板研磨装置，其特征在于，

所述研磨垫具有矩形、正方形、多边形、圆形、椭圆形中任意一种形状，

至少设置一个以上所述研磨垫。

11.根据权利要求1或4所述的基板研磨装置，其特征在于，

还包括基板移送部，基板移送部以使得所述基板的被研磨面朝向上部的状态移送所述基板，

所述基板移送部在表面形成有安置部，安置部用于装载所述基板，

所述安置部形成为具有以下任意一个或者两个以上组合的构成：摩擦结构，其防止所述基板从所述基板移送部滑脱；槽，所述基板插入于槽中；凸出结构，其支撑所述基板的边缘中至少一部分。

12.根据权利要求1或4所述的基板研磨装置，其特征在于，

还设置有基板载体，基板载体用于装载所述基板，

所述基板载体形成为具有以下任意一个或者两个以上组合的构成：吸附结构，其向所述基板提供真空或吸入力从而夹紧基板；产生摩擦力的结构，其防止所述基板滑脱；槽，所述基板插入于槽中；凸出结构，其支撑所述基板的边缘中至少一部分。