[实用新型]配置辅助阳极的低温沉积设备

权利要求书

1.配置辅助阳极的低温沉积设备，其特征在于：包括真空室和均置于真空室内的柔性基材、放卷辊、第一导辊、水冷鼓、第二导辊、收卷辊、多对磁控靶、多个辅助阳极；柔性基材依次绕过放卷辊、第一导辊、水冷鼓、第二导辊、收卷辊；多对磁控靶沿着水冷鼓圆周表面的圆周方向依次布置，每对磁控靶之间布置一个辅助阳极；第一导辊和第二导辊对称设置在真空室内，放卷辊和收卷辊对称设置在真空室内，水冷鼓设置在真空室的中心。

2.按照权利要求1所述的配置辅助阳极的低温沉积设备，其特征在于：低温沉积设备还包括动力机构，动力机构的输出端连接在收卷辊上。

3.按照权利要求1所述的配置辅助阳极的低温沉积设备，其特征在于：磁控靶为平面磁控靶或圆柱磁控靶。

4.按照权利要求1所述的配置辅助阳极的低温沉积设备，其特征在于：所述磁控靶的磁场为发散型磁场。

5.按照权利要求1所述的配置辅助阳极的低温沉积设备，其特征在于：真空室呈方形。

6.配置辅助阳极的低温沉积设备，其特征在于：包括真空室和均设置在真空室内的片状基材、输送机构、多对磁控靶、多个辅助阳极；片状基材放置在输送机构上，片状基材的上方和下方均设置多对磁控靶，多对磁控靶沿着输送机构的输送方向依次设置，每对磁控靶之间布置一个辅助阳极。

7.按照权利要求6所述的配置辅助阳极的低温沉积设备，其特征在于：低温沉积设备还包括机架，机架设置在真空室内，输送机构安装在机架上。

8.按照权利要求7所述的配置辅助阳极的低温沉积设备，其特征在于：输送机构为传送带机构。

9.按照权利要求7所述的配置辅助阳极的低温沉积设备，其特征在于：输送机构为滚筒机构，滚筒机构上有多根滚筒，多根滚筒沿着片状基材的运行方向依次设置。

10.按照权利要求6所述的配置辅助阳极的低温沉积设备，其特征在于：一对磁控靶由两个磁控靶组成，两个磁控靶之间设置一个辅助阳极。