[实用新型]配置辅助阳极的低温沉积设备

说明书

本实用新型涉及配置辅助阳极的低温沉积设备，包括真空室和均置于真空室内的柔性基材、放卷辊、第一导辊、水冷鼓、第二导辊、收卷辊、多对磁控靶、多个辅助阳极；柔性基材依次绕过放卷辊、第一导辊、水冷鼓、第二导辊、收卷辊；多对磁控靶沿着水冷鼓圆周表面的圆周方向依次布置，每对磁控靶之间布置一个辅助阳极；第一导辊和第二导辊对称设置在真空室内，放卷辊和收卷辊对称设置在真空室内，水冷鼓设置在真空室的中心。本实用新型还涉及另外一种配置辅助阳极的低温沉积设备，低温沉积设备可以避免二次电子轰击到基材上，属于基材镀膜的技术领域。

技术领域

本实用新型涉及基材镀膜的技术领域，尤其涉及配置辅助阳极的低温沉积设备。

背景技术

现有技术中，在使用磁控靶对基材进行镀膜时，等离子体轰击靶材所发射出来的二次电子会轰击到基材上，二次电子所携带的能量会传递到基材上，导致基材的温度攀升，对于一些温度敏感性高的材料，二次电子带来的温度攀升会造成基材的损害。

实用新型内容

针对现有技术中存在的技术问题，本实用新型的目的是：提供配置辅助阳极的低温沉积设备，可以避免二次电子轰击到基材上。

为了达到上述目的，本实用新型采用如下技术方案：

配置辅助阳极的低温沉积设备，包括真空室和均置于真空室内的柔性基材、放卷辊、第一导辊、水冷鼓、第二导辊、收卷辊、多对磁控靶、多个辅助阳极；柔性基材依次绕过放卷辊、第一导辊、水冷鼓、第二导辊、收卷辊；多对磁控靶沿着水冷鼓圆周表面的圆周方向依次布置，每对磁控靶之间布置一个辅助阳极；第一导辊和第二导辊对称设置在真空室内，放卷辊和收卷辊对称设置在真空室内，水冷鼓设置在真空室的中心。

进一步的是：低温沉积设备还包括动力机构，动力机构的输出端连接在收卷辊上。

进一步的是：磁控靶为平面磁控靶或圆柱磁控靶。

进一步的是：所述磁控靶的磁场为发散型磁场。

进一步的是：真空室呈方形。

配置辅助阳极的低温沉积设备，包括真空室和均设置在真空室内的片状基材、输送机构、多对磁控靶、多个辅助阳极；片状基材放置在输送机构上，片状基材的上方和下方均设置多对磁控靶，多对磁控靶沿着输送机构的输送方向依次设置，每对磁控靶之间布置一个辅助阳极。

进一步的是：低温沉积设备还包括机架，机架设置在真空室内，输送机构安装在机架上。机架可以用来支撑输送机构，结构简单、成本低。

进一步的是：输送机构为传送带机构。传送带机构为常用机构，结构简单、成本低。

进一步的是：输送机构为滚筒机构，滚筒机构上有多根滚筒，多根滚筒沿着片状基材的运行方向依次设置。滚筒机构为常用机构，结构简单、成本低。

进一步的是：一对磁控靶由两个磁控靶组成，两个磁控靶之间设置一个辅助阳极。

总的说来，本实用新型具有如下优点：

本实用新型的两种低温沉积设备均设有辅助阳极，结构简单、成本低、便于推广使用、具有较大的经济效益；辅助阳极可以吸收等离子体轰击靶材时所发射出来的二次电子，避免二次电子轰击到基材上，二次电子所携带的能量传递到基材上会导致基材温度攀升，有效降低了镀膜系统对基材的热效应，辅助阳极有效吸收二次电子的功能可对基材起到至关重要的保护作用，实现了更低的等离子体热效应，在基材耐温性不变的工艺前提下，可提升更高的溅射功率密度，实现更高的溅射镀膜效率。

附图说明

图1是本实用新型实施例1的结构示意图。

图2是本实用新型实施例2的结构示意图。

具体实施方式