[实用新型]一种磁控溅射设备有效
申请号: | 201820969086.2 | 申请日: | 2018-06-22 |
公开(公告)号: | CN208762572U | 公开(公告)日: | 2019-04-19 |
发明(设计)人: | 刘洋;汪振南;雷绍温;杨永雷;见东伟;张伟;邬英;刘福山;韩晓琳 | 申请(专利权)人: | 山西米亚索乐装备科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35 |
代理公司: | 北京英创嘉友知识产权代理事务所(普通合伙) 11447 | 代理人: | 陈庆超;桑传标 |
地址: | 037000 山西*** | 国省代码: | 山西;14 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 网状屏蔽 真空腔室 镀膜腔 防护板 磁控溅射设备 本实用新型 磁控溅射靶 侧壁 干扰磁场 高效电磁 溅射设备 平稳运行 气体污染 板设置 屏蔽板 屏蔽 拆卸 磁场 外部 | ||
1.一种磁控溅射设备,其特征在于,包括:设置在所述设备的真空腔室(1)内的网状屏蔽板(2);
所述真空腔室(1)内包括一个或多个镀膜腔(3),所述网状屏蔽板设置在所述镀膜腔(3)内的侧壁上。
2.根据权利要求1所述的磁控溅射设备,其特征在于,所述镀膜腔(3)内的侧壁还设置有防护板(4),所述网状屏蔽板(2)设置在所述防护板(4)外侧。
3.根据权利要求1所述的磁控溅射设备,其特征在于,所述网状屏蔽板(2)是由铜合金线通过交叉打结编织制成的网状板。
4.根据权利要求3所述的磁控溅射设备,其中所述铜合金线的直径为1~2mm。
5.根据权利要求2所述的磁控溅射设备,其中所述防护板(4)为1.2~1.8㎜厚的钢板。
6.根据权利要求2所述的磁控溅射设备,其中所述镀膜腔(3)的内壁上预留有安装孔,用于安装所述防护板(4)和所述网状屏蔽板(2)。
7.根据权利要求2所述的磁控溅射设备,其中所述镀膜腔(3)的上下两内壁设置有连接件,用于与所述防护板(4)和所述网状屏蔽板(2)连接。
8.根据权利要求1所述的磁控溅射设备,其特征在于,所述镀膜腔(3)内设置有磁控溅射靶(5)。
9.根据权利要求1所述的磁控溅射设备,其中所述镀膜腔(3)为四个。
10.根据权利要求8所述的磁控溅射设备,其中所述网状屏蔽板(2)和所述磁控溅射靶(5)相隔距离为70~100mm。
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