[实用新型]一种硅片的超声波清洗装置有效
| 申请号： | 201820969507.1 | 申请日： | 2018-06-22 |
| 公开（公告）号： | CN208643504U | 公开（公告）日： | 2019-03-26 |
| 发明（设计）人： | 许小兵;谢静;刘俊;龙婉蓉;罗华丽;王晨熹 | 申请（专利权）人： | 中国振华集团永光电子有限公司（国营第八七三厂） |
| 主分类号： | B08B3/12 | 分类号： | B08B3/12;B08B13/00;H01L21/67 |
| 代理公司： | 贵阳睿腾知识产权代理有限公司 52114 | 代理人： | 谷庆红 |
| 地址： | 550018 贵州省*** | 国省代码： | 贵州;52 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 石英 超声波清洗装置 超声波清洗机 定位架 硅片 本实用新型 排水管 放置架 进水管 清洗 二次污染 硅片表面 硅片清洗 清洗效果 去离子水 人员看守 省时 省力 悬浮 脱离 | ||
1.一种硅片的超声波清洗装置，其特征在于：包括超声波清洗机(1)、定位架(2)、石英壶(3)、放置架(4)、进水管(5)、排水管(6)，所述定位架(2)放置于超声波清洗机(1)中，所述石英壶(3)放置于定位架(2)中，所述放置架(4)放置于石英壶(3)内，所述进水管(5)设置于石英壶(3)上方，所述超声波清洗机(1)底部设置有排水管(6)。
2.如权利要求1所述的一种硅片的超声波清洗装置，其特征在于：所述定位架(2)设置有支撑脚。
3.如权利要求1所述的一种硅片的超声波清洗装置，其特征在于：所述石英壶(3)设置有把手。
4.如权利要求1所述的一种硅片的超声波清洗装置，其特征在于：所述石英壶(3)的壶嘴高于壶口线。
5.如权利要求4所述的一种硅片的超声波清洗装置，其特征在于：所述石英壶(3)的壶口线高于排水管(6)。
6.如权利要求1所述的一种硅片的超声波清洗装置，其特征在于：所述放置架(4)设置有卡槽。
7.如权利要求1所述的一种硅片的超声波清洗装置，其特征在于：所述放置架(4)设置有支撑脚。
8.如权利要求1所述的一种硅片的超声波清洗装置，其特征在于：所述放置架(4)制作材料为石英棒。
9.如权利要求1所述的一种硅片的超声波清洗装置，其特征在于：所述进水管(5)上设置有阀门(51)。
10.如权利要求9所述的一种硅片的超声波清洗装置，其特征在于：所述阀门(51)为球阀。
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