[实用新型]一种硅片的超声波清洗装置

说明书

本实用新型公开了一种硅片的超声波清洗装置，属于硅片清洗技术领域。该装置包括超声波清洗机、定位架、石英壶、放置架、进水管、排水管，所述定位架放置于超声波清洗机中，所述石英壶放置于定位架中，所述放置架放置于石英壶内，所述进水管设置于石英壶上方，所述超声波清洗机底部设置有排水管。本实用新型提供的超声波清洗装置可以及时清理从硅片表面脱离后悬浮于去离子水中的杂质，避免给已清洗的硅片造成二次污染，且清洗效果好，操作方便，清洗期间不用人员看守，省时省力。

技术领域

本实用新型涉及一种硅片的超声波清洗装置，属于硅片清洗技术领域。

背景技术

硅片在超声波清洗过程中，晶片表面层原子因垂直切片方向的化学键被破坏而形成悬挂键，随着悬挂键数目的增多，极易吸附各种杂质，如颗粒、有机杂质、无机杂质、金属离子、硅粉粉尘等。然而，硅片生产中的每一道工序存在的潜在污染都可能导致缺陷的产生和半导体器件的失效。目前，一般采用超声波清洗机来清洗硅片，超声波清洗机通常设置有清洗槽，清洗槽上开有去离子水进水口和出水口，清洗槽中保持有一定量的去离子水，并且去离子水始终处于流动状态；另外，在清洗硅片时，通常将硅片放置于软体花篮内或者石英棒框架上。

上述超声波清洗方法存在以下缺陷：第一，在超声波清洗时，硅片表面的各种杂质逐渐脱离，悬浮在去离子水中，仅仅通过出水口难以将大量杂质及时排到清理槽外，这就造成清洗工作完成后，从清洗槽中取出硅片时，悬浮于去离子水中的部分杂质又重新吸附于硅片表面，对硅片造成二次污染，给硅片的后续清洗带来较大困难，甚至影响芯片整体质量；第二，放置硅片的软体花篮是用聚四氟材料制作的，清洗时软体花篮会吸附和阻挡超声波的传递，另外一种情况，平放于石英棒上的硅片由于没有限位装置固定，清洗时一直晃动，影响清洗效果。

实用新型内容

为解决上述技术问题，本实用新型提供了一种硅片的超声波清洗装置。

本实用新型通过以下技术方案得以实现：一种硅片的超声波清洗装置，包括超声波清洗机、定位架、石英壶、放置架、进水管、排水管，所述定位架放置于超声波清洗机中，所述石英壶放置于定位架中，所述放置架放置于石英壶内，所述进水管设置于石英壶上方，所述超声波清洗机底部设置有排水管。

所述定位架设置有支撑脚。

所述石英壶设置有把手。

所述石英壶的壶嘴高于壶口线。

所述石英壶的壶口线高于排水管。

所述放置架设置有卡槽。

所述放置架设置有支撑脚。

所述放置架制作材料为石英棒。

所述进水管上设置有阀门。

所述阀门为球阀。

本实用新型的有益效果在于：第一，采用石英壶将硅片和超声波清洗机中的去离子水隔离开，清洗时石英壶中的去离子水一直处于溢出状态，溢出的去离子水能及时将脱离硅片表面的杂质带出石英壶，避免杂质对石英壶中的硅片造成二次污染；第二，石英壶和放置架均是用石英制作而成，超声波对石英有很好的穿透效果，另外放置架上设置有卡槽，硅片插入其中较为稳固，清洗效果更好；第三，操作方便，硅片清洗期间不用人员看守，省时省力。

附图说明

图1为本实用新型的全剖结构示意图；

图2为本实用新型的定位架结构示意图；

图3为本实用新型的石英壶结构示意图；

图4为本实用新型的放置架结构示意图；

图中：1-超声波清洗机，2-定位架，3-石英壶，4-放置架，5-进水管，51-阀门，6-排水管。

具体实施方式