[实用新型]用于硅铜触体反应性能试验的反应器

权利要求书

1.一种用于硅铜触体反应性能试验的反应器，包括反应器筒体，其特征在于：反应器筒体顶部设置搅拌器组件，反应器筒体上部分别设置有加料口和过滤器组件，反应器筒体下部设置有气体入口，反应器筒体外部套装有电加热炉组件，反应器筒体内部设置有气体分布器组件，反应器筒体底部设置有快开式卸料器组件。

2.根据权利要求1所述的用于硅铜触体反应性能试验的反应器，其特征在于：反应器筒体上分别设置有用于监测气相段温度和触体温度的热电偶。

3.根据权利要求1所述的用于硅铜触体反应性能试验的反应器，其特征在于：

搅拌器组件包括磁力搅拌机、搅拌轴、搅拌叶轮，磁力搅拌机通过法兰与反应器筒体的上端法兰连接，搅拌轴设置在反应器筒体内部中心位置，搅拌轴的上端通过凸缘联轴器与磁力搅拌机的输出轴连接，搅拌轴的下端通过螺纹结构与搅拌叶轮连接；

过滤器组件包括微孔过滤器，微孔过滤器通过快装接头和卡箍安装在反应器筒体上，快装接头上设置有合成气出口；

气体分布器组件包括分布器主体、T型支撑杆，T型支撑杆为中空结构，分布器主体与T型支撑杆的上端连接；

快开式卸料器组件包括分布器支座、快装法兰内套、快装法兰外套、压紧顶丝，分布器支座通过螺纹结构与T型支撑杆的下端连接，快装法兰内套套装在反应器筒体的下端法兰和分布器支座上，快装法兰外套套装在快装法兰内套上，快装法兰外套上设置有用于顶压快装法兰内套的第一压紧顶丝，快装法兰内套底部设置有用于顶压分布器支座的第二压紧顶丝，快装法兰内套底部还设置有第一排净口，分布器支座上设置有与T型支撑杆的内孔、第一排净口连通的通孔。

4.根据权利要求3所述的用于硅铜触体反应性能试验的反应器，其特征在于：搅拌轴为两段式结构，包括第一搅拌轴和第二搅拌轴，第一搅拌轴和第二搅拌之间通过螺纹结构连接，第一搅拌轴的上端通过凸缘联轴器与磁力搅拌机的输出轴连接，第二搅拌轴的下端通过螺纹结构与搅拌叶轮连接。

5.根据权利要求3所述的用于硅铜触体反应性能试验的反应器，其特征在于：搅拌叶轮为螺旋推进式结构。

6.根据权利要求3所述的用于硅铜触体反应性能试验的反应器，其特征在于：微孔过滤器由多孔粉末冶金材料制作成杯型结构，并且通过螺纹结构与快装接头连接，快装接头的法兰之间设置有密封垫并且通过卡箍固定连接。

7.根据权利要求3所述的用于硅铜触体反应性能试验的反应器，其特征在于：分布器主体包括分布板、布气座、压盖，分布板通过螺纹压紧结构或焊接方式与布气座连接，布气座与反应器筒体之间设置有密封环，压盖通过压紧螺栓固定在布气座上并且通过调节压紧螺栓挤压密封环；T型支撑杆包括孔式杆托、撑杆，撑杆为中空结构，撑杆底部通过螺纹结构与分布器支座连接并且通过锁紧螺母固定，撑杆上设置有与撑杆的内孔连通的第二排净口，孔式杆托焊接在撑杆上端，并且通过螺栓固定安装在压盖上。

8.根据权利要求7所述的用于硅铜触体反应性能试验的反应器，其特征在于：分布板为惰性材料一次成型的多孔结构。

9.根据权利要求7所述的用于硅铜触体反应性能试验的反应器，其特征在于：密封环设置多个，密封环之间设置有间隔环。

10.根据权利要求7所述的用于硅铜触体反应性能试验的反应器，其特征在于：孔式杆托为圆形板式多孔结构，孔径3-5mm。