[实用新型]一种晶圆清洗装置

权利要求书

1.一种晶圆清洗装置，包括承载组件以及喷淋组件，所述承载组件用于安装待清洗的晶圆，所述喷淋组件设于所述承载组件上方，用于喷出清洗液，其特征在于，所述承载组件具有至少一晶圆安装面，待清洗的晶圆适于沿所述晶圆安装面设置，所述晶圆安装面与所述喷淋组件的喷射方向不垂直，或者所述晶圆安装面适于转动到与所述喷淋组件的喷射方向不垂直的位置。

2.根据权利要求1所述的晶圆清洗装置，其特征在于，还包括转盘组件以及设置在所述转盘组件上的多个所述承载组件，所述转盘组件适于被驱动以绕一轴z旋转，当所述转盘组件转动时，各所述承载组件依次经过所述喷淋组件。

3.根据权利要求2所述的晶圆清洗装置，其特征在于，各所述承载组件分别设置在所述转盘组件上端面以及下端面，所述转盘组件的两侧分别设有一所述喷淋组件，以使得所述转盘组件旋转时，各所述承载组件依次经过上方或下方的所述喷淋组件。

4.根据权利要求2所述的晶圆清洗装置，其特征在于，各所述承载组件可调角度地设置在所述转盘组件上，从而通过调节所述承载组件在所述转盘组件上的角度，使得所述晶圆安装面与所述喷淋组件的喷射方向不垂直。

5.根据权利要求2所述的晶圆清洗装置，其特征在于，所述转盘组件同一端面上的各个所述承载组件以所述轴z为中心轴呈旋转对称设置。

6.根据权利要求2所述的晶圆清洗装置，其特征在于，所述转盘组件同一端面上的各个所述承载组件呈轴对称设置。

7.根据权利要求2-6任一所述的晶圆清洗装置，其特征在于，所述承载组件包括至少两个间隔设置的定位件，每一所述定位件在与另一所述定位件相对的一侧具有至少一卡槽，一晶圆载板的两端适于分别插入两相对的所述定位件上的所述卡槽内，从而两相对的所述定位件上的所述卡槽限定一所述晶圆安装面。

8.根据权利要求7所述的晶圆清洗装置，其特征在于，各所述定位件上的所述卡槽相互平行，且所述卡槽的延伸方向与所述喷淋组件的喷射方向不垂直。

9.根据权利要求7所述的晶圆清洗装置，其特征在于，各所述卡槽相互平行，一所述定位件上的卡槽与相对的另一所述定位件上的至少一卡槽在所述喷淋组件的喷射方向上的高度不同。

10.根据权利要求7所述的晶圆清洗装置，其特征在于，各所述定位件之间的距离可调节。

11.根据权利要求10所述的晶圆清洗装置，其特征在于，所述转盘组件的端面具有与每一所述承载组件对应的滑轨，所述承载组件的至少一所述定位件可移动地设置在所述滑轨上，从而该可移动的所述定位件与相邻的其他所述定位件之间的距离可调节。

12.根据权利要求8-11任一所述的晶圆清洗装置，其特征在于，所述承载组件还包括设于各所述卡槽的端部的阻挡结构，所述阻挡结构将所述卡槽的一端封闭。

13.根据权利要求12所述的晶圆清洗装置，其特征在于，所述承载组件还包括一盖板，所述盖板可开合地设置在各个所述定位件远离所述阻挡结构的一端，以打开或封闭各所述卡槽的另一端，所述盖板上形成有排液孔。

14.根据权利要求1-3任一所述的晶圆清洗装置，其特征在于，所述晶圆安装面与所述喷淋组件的喷射方向之间的夹角大于30°且小于90°。