[实用新型]一种晶圆清洗装置

说明书

本实用新型公开了一种晶圆清洗装置，包括承载组件以及喷淋组件，承载组件用于安装待清洗的晶圆，喷淋组件设于承载组件上方，用于喷出清洗液，承载组件具有至少一晶圆安装面，待清洗的晶圆适于沿晶圆安装面设置，晶圆安装面与喷淋组件的喷射方向不垂直，或者晶圆安装面适于转动到与喷淋组件的喷射方向不垂直的位置。

技术领域

本实用新型涉及晶圆清洗技术领域，尤其涉及一种晶圆清洗装置。

背景技术

晶圆是摄像模组中的一个关键部件，晶圆的洁净度关系到能否高质量地接收到光学系统的成像，所以生产过程中对晶圆的清洗工作尤为重要。

传统的晶圆清洗方式是采用喷头垂直喷出清洗液体，晶圆所在的钢板水平放置于转盘上，利用喷头喷出的清洗液体的冲击力和转盘带来的离心力将脏污除去。在中国专利200310122887.3中公开了一种晶圆喷洗装置，包括有承载一晶圆的晶圆承载座以及沿该承载座的一径向外侧设置的清洗液传送构件，该清洗液传送构件一端呈U型向下弯折一喷头，该喷头垂直位于该晶圆正中心上方，从而清洗液恒定地由该晶圆的正中心上方向下喷射，从而维持清洗效率的稳定性。但是，当清洗液体垂直于晶圆冲击时，会导致反射回来的清洗液体阻挡后续冲洗晶圆的水流，从而降低了清洗效果。

实用新型内容

为了克服现有技术的不足，本实用新型的目的在于提供一种晶圆清洗装置，在清洗液体喷出压力一定的情况下，与现有技术相比有效提高了晶圆的清洗效果。

本实用新型的目的采用如下技术方案实现：

一种晶圆清洗装置，包括承载组件以及喷淋组件，所述承载组件用于安装待清洗的晶圆，所述喷淋组件设于所述承载组件上方，用于喷出清洗液，所述承载组件具有至少一晶圆安装面，待清洗的晶圆适于沿所述晶圆安装面设置，所述晶圆安装面与所述喷淋组件的喷射方向不垂直，或者所述晶圆安装面适于转动到与所述喷淋组件的喷射方向不垂直的位置。

本实用新型中，由于所述喷淋组件喷射方向与所述晶圆安装面不垂直，因此喷出的清洗液倾斜喷射在所述晶圆安装面上的待清洗晶圆，也即清洗液的入射角度与晶圆的表面不垂直，从而清洗液体被晶圆表面反射后向入射方向的另一侧溅起，反射的清洗液不会阻挡入射的清洗液，保证了入射的清洗液体具有足够的冲击力清洗晶圆。

进一步地，所述晶圆清洗装置还包括转盘组件以及设置在所述转盘组件上的多个所述承载组件，所述转盘组件适于被驱动以绕一轴z旋转，当所述转盘组件转动时，各所述承载组件依次经过所述喷淋组件。

进一步地，各所述承载组件分别设置在所述转盘组件上端面以及下端面，所述转盘组件的两侧分别设有一所述喷淋组件，以使得所述转盘组件旋转时，各所述承载组件依次经过上方或下方的所述喷淋组件。通过在转盘组件的两侧均设置承载组件，一次清洗的数量增加了一倍，清洗效率提高，并且提高了空间利用率。

根据本实用新型的一个实施例，各所述承载组件可调角度地设置在所述转盘组件上，从而通过调节所述承载组件在所述转盘组件上的角度，使得所述晶圆安装面与所述喷淋组件的喷射方向不垂直。

根据本实用新型的一个实施例，所述转盘组件同一端面上的各个所述承载组件以所述轴z为中心轴呈旋转对称设置。

根据本实用新型的另一个实施例，所述转盘组件同一端面上的各个所述承载组件呈轴对称设置。

根据本实用新型的另一个实施例，所述承载组件包括至少两个间隔设置的定位件，每一所述定位件在与另一所述定位件相对的一侧具有至少一卡槽，一晶圆载板的两端适于分别插入两相对的所述定位件上的所述卡槽内，从而两相对的所述定位件上的所述卡槽限定一所述晶圆安装面。

根据本实用新型的一个实施例，各所述定位件上的所述卡槽相互平行，且所述卡槽的延伸方向与所述喷淋组件的喷射方向不垂直。