[实用新型]一种梯度线圈及磁共振成像装置有效
| 申请号： | 201821115594.0 | 申请日： | 2018-07-12 |
| 公开（公告）号： | CN209946363U | 公开（公告）日： | 2020-01-14 |
| 发明（设计）人： | 彭卫平;岳振华;任仲友 | 申请（专利权）人： | 西门子(深圳)磁共振有限公司 |
| 主分类号： | G01R33/385 | 分类号： | G01R33/385 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518057 广东省深圳*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 匀场 环形端 环形端面 周向设置 轴向延伸 插装 磁共振成像装置 本实用新型 中空圆筒状 环形开口 梯度线圈 | ||
1.一种梯度线圈，其包括具有环形端面的中空圆筒状的主体，其特征在于，包括：
用于插装第一匀场条的多个第一匀场孔，沿所述环形端面的周向设置于所述环形端面，并沿所述主体的轴向延伸；
用于插装第二匀场条的多个第二匀场孔，沿所述环形端面的周向设置于所述环形端面，并沿所述主体的轴向延伸；
所述第一匀场孔与所述第二匀场孔在所述环形端面的周向上分别设置为环状，且在所述环形端面的径向上离开地设置在不同位置，
所述第一匀场孔与所述第二匀场孔以沿所述环形端面的径向相对的方式配置在所述环形端面的同一周向位置处，
所述第一匀场孔与所述第二匀场孔之间通过通孔相连。
2.根据权利要求1所述的梯度线圈，其特征在于，
在所述通孔中设置有降噪构件。
3.一种梯度线圈，其包括具有环形端面的中空圆筒状的主体，其特征在于，包括：
用于插装第一匀场条的多个第一匀场孔，沿所述环形端面的周向设置于所述环形端面，并沿所述主体的轴向延伸；
用于插装第二匀场条的多个第二匀场孔，沿所述环形端面的周向设置于所述环形端面，并沿所述主体的轴向延伸；
所述第一匀场孔与所述第二匀场孔在所述环形端面的周向上分别设置为环状，且在所述环形端面的径向上离开地设置在不同位置，
所述第一匀场孔与所述第二匀场孔在所述环形端面上的周向上交替地配置成锯齿状。
4.根据权利要求1或3所述的梯度线圈，其特征在于，
在所述第一匀场孔和所述第二匀场孔中的一个匀场孔中安装所述第一匀场条或所述第二匀场条，在另一匀场孔中安装降噪构件。
5.根据权利要求1或3所述的梯度线圈，其特征在于，
仅在所述第一匀场孔或者所述第二匀场孔中的一个匀场孔中安装匀场条，另一匀场孔保持空置。
6.根据权利要求1或3所述的梯度线圈，其特征在于，
在所述梯度线圈的开口的径向外侧还设有环绕梯度线圈的支承凸起。
7.根据权利要求1或3所述的梯度线圈，其特征在于，
所述第一匀场条与所述第二匀场条不同。
8.根据权利要求1或3所述的梯度线圈，其特征在于，
包括主梯度线圈和屏蔽梯度线圈，所述屏蔽梯度线圈设置于主梯度线圈的径向外侧，
所述第一匀场条与所述第二匀场条设置于主梯度线圈与屏蔽梯度线圈之间。
9.磁共振成像装置，其特征在于，其包括：
一个超导磁体；和
一个如权利要求1～8中任一项所述的梯度线圈。
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