[实用新型]一种梯度线圈及磁共振成像装置

说明书

本实用新型提供一种梯度线圈及磁共振成像装置，其包括具有环形开口端面的中空圆筒状的主体，其包括：用于插装第一匀场条的多个第一匀场孔，沿所述环形端面的周向设置于所述环形端面，并沿所述主体的轴向延伸；用于插装第二匀场条的多个第二匀场孔，沿所述环形端面的周向设置于所述环形端面，并沿所述主体的轴向延伸；所述第一匀场孔与所述第二匀场孔在所述环形端面的周向上分别设置为环状，且在所述环形端面的径向上离开地设置在不同位置。

技术领域

本实用新型涉及一种磁共振成像装置的梯度线圈及具有上述梯度线圈的磁共振成像装置。

背景技术

为提高磁共振成像质量，需要调配磁共振成像装置的磁场均匀性。现有磁共振成像装置的梯度线圈中设置有数个匀场条，各个匀场条具有能够置放匀场片的单元格，通过调整各个匀场条承载的匀场片的数量就可以调整磁共振成像装置的磁场均匀性，此过程称为被动匀场过程。

在被动匀场过程中，由于匀场片具有较高磁导率，所以操作承载有大量匀场片的匀场条时，为操作安全，也为保护匀场条在强大的磁场力下不会损坏，需要先使磁共振成像装置降场，调整放置匀场条后再使磁共振成像装置升场，往往需要重复多次上述步骤才可以完成磁场均匀性的调整。每次降场、升场的操作都会耗费大量液氦，且浪费人工成本。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型提出了一种重量轻且不需要升降场操作就能够进行匀场的梯度线圈及具备其的磁共振成像装置。

本实用新型的一实施例提供一种梯度线圈，其包括具有环形开口端面的中空圆筒状的主体，其包括：用于插装第一匀场条的多个第一匀场孔，沿所述环形端面的周向设置于所述环形端面，并沿所述主体的轴向延伸；用于插装第二匀场条的多个第二匀场孔，沿所述环形端面的周向设置于所述环形端面，并沿所述主体的轴向延伸；所述第一匀场孔与所述第二匀场孔在所述环形端面的周向上分别设置为环状，且在所述环形端面的径向上离开地设置在不同位置。

根据上述实施例，通过在梯度线圈的径向不同位置设置第一匀场孔和第二匀场孔，可以直接在磁共振设备的使用者所在地装配第一及第二匀场条并进行匀场。也可以在制造磁共振设备的场地内利用插入到第一匀场孔中的第一匀场条来进行匀场，当磁共振设备制造完毕并被搬运到使用者所在地时，进一步利用插入到第二匀场孔中的第二匀场条来进行匀场，此时，可以不必对磁共振设备进行升降场操作，而直接在带磁场的情况下进行匀场操作，由此能够降低液氦的消耗。

此外，在上述梯度线圈中，优选所述第一匀场孔与所述第二匀场孔以沿所述环形端面的径向相对的方式配置在所述环形端面的同一周向位置处。

此外，在上述梯度线圈中，优选所述第一匀场孔与所述第二匀场孔之间通过通孔相连。

此外，在上述梯度线圈中，优选所述第一匀场孔与所述第二匀场孔在所述环形端面上的周向上交替地配置成锯齿状。

此外第一匀场孔、第二匀场孔在环形端面的周向上排列成环状，数量可为8-36个

此外，第一匀场孔、第二匀场孔在与梯度线圈轴向垂直方向的截面可以相同或不同。

此外，第一匀场孔在梯度线圈的轴向上可以变截面，第二匀场孔在梯度线圈的轴向上可以变截面。

此外，在上述梯度线圈中，优选在所述第一匀场孔和所述第二匀场孔中的一个匀场孔中安装所述第一匀场条或所述第二匀场条，在另一匀场孔中安装降噪构件。

此外，在上述梯度线圈中，优选在所述通孔中设置有降噪构件。

此外，在上述梯度线圈中，优选仅在所述第一匀场孔或者所述第二匀场孔中的一个匀场孔中安装匀场条，另一匀场孔保持空置。

此外，在上述梯度线圈中，优选在所述梯度线圈的开口的径向外侧还设有环绕梯度线圈的支承凸起。