[实用新型]晶圆加工设备

权利要求书

1.一种晶圆加工设备，其特征在于，包括：

晶圆缓存模块；

两个晶圆加工系统，两个所述晶圆加工系统相对设置且可独立工作，每个所述晶圆加工系统包括：抛光单元、第一机械手、传输单元、第二机械手和清洗单元，所述抛光单元和所述清洗单元相邻设置，所述清洗单元邻近所述晶圆缓存模块，所述第一机械手在所述晶圆缓存模块和所述传输单元之间以及所述传输单元和所述清洗单元之间运动，所述传输单元在所述第一机械手和所述第二机械手之间传输，所述第二机械手用于为所述抛光单元传输晶圆。

2.根据权利要求1所述的晶圆加工设备，其特征在于，每个所述晶圆加工系统包括两个所述抛光单元，两个抛光单元共用一个所述第二机械手。

3.根据权利要求2所述的晶圆加工设备，其特征在于，每个所述抛光单元包括：抛光盘、抛光头和装卸平台，两个所述抛光单元的所述装卸平台均邻近所述第二机械手设置。

4.根据权利要求1所述的晶圆加工设备，其特征在于，两个所述晶圆加工系统的所述抛光单元之间形成有传输通道，两个所述晶圆加工系统的所述传输单元均设置在所述传输通道内。

5.根据权利要求4所述的晶圆加工设备，其特征在于，两个所述晶圆加工系统的所述抛光单元关于所述传输通道对称布置。

6.根据权利要求1所述的晶圆加工设备，其特征在于，每个所述清洗单元包括：清洗模块、干燥模块、竖直缓存模块和翻转模块，所述清洗模块、所述干燥模块、所述竖直缓存模块和所述翻转模块并排布置。

7.根据权利要求6所述的晶圆加工设备，其特征在于，所述竖直缓存模块的侧向设置有供晶圆进出的开口。

8.根据权利要求6所述的晶圆加工设备，其特征在于，每个所述清洗单元还包括：第三机械手和第四机械手，所述第三机械手在所述清洗模块和所述竖直缓存模块的上方移动，所述第四机械手在所述清洗模块、所述干燥模块和所述翻转模块的上方移动。

9.根据权利要求1所述的晶圆加工设备，其特征在于，所述第一机械手从所述晶圆缓存模块拿取所述晶圆后，所述第一机械手翻转使所述晶圆正面朝下且将翻转后的所述晶圆放置在所述传输单元。

10.根据权利要求1所述的晶圆加工设备，其特征在于，两个所述晶圆加工系统的所述清洗单元之间留有布置空间，两个所述第一机械手和所述晶圆缓存模块设置在所述布置空间。

11.根据权利要求1所述的晶圆加工设备，其特征在于，所述第二机械手设置有两个机械臂。

12.根据权利要求1所述的晶圆加工设备，其特征在于，还包括：前端模块，所述前端模块设置于一个所述晶圆加工系统的一侧，所述前端模块向所述晶圆缓存模块供应晶圆。