[实用新型]晶圆加工设备

说明书

本实用新型公开了一种晶圆加工设备，晶圆加工设备包括：晶圆缓存模块和两个晶圆加工系统，两个晶圆加工系统相对设置且可独立工作，每个晶圆加工系统包括：抛光单元、第一机械手、传输单元、第二机械手和清洗单元，抛光单元和清洗单元相邻设置，清洗单元邻近晶圆缓存模块，第一机械手在晶圆缓存模块和传输单元之间以及传输单元和清洗单元之间运动，传输单元在第一机械手和第二机械手之间传输，第二机械手用于为抛光单元传输晶圆。由此，通过晶圆缓存模块和两个晶圆加工系统配合，两个晶圆加工系统能够独立工作，互不影响，可以提高生产效率，并且，该晶圆加工设备的工艺更灵活，生产出的晶圆适应性更强。

技术领域

本实用新型涉及机械设备领域，尤其是涉及一种晶圆加工设备。

背景技术

相关技术中，现有的晶圆加工设备，通常有一组晶圆抛光单元和一组晶圆清洗单元，穿行生产，效率比较低。个别晶圆加工设备具有两组抛光单元或者两组清洗单元，但无法形成两组完全独立的生产晶圆的系统。

其中，具有两组抛光单元或者两组清洗单元的晶圆加工设备，无法形成完全独立生产的系统，智能抛光或者清洗效率提高，但对整机产率提高不多，并且，两组系统不完全独立，无论是抛光单元还是清洗单元都未达到两组，一旦抛光单元或者清洗单元出问题，整个晶圆加工设备都要停机，影响生产效率。

实用新型内容

本实用新型旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本实用新型的一个目的在于提出一种晶圆加工设备，该晶圆加工设备可以提高生产效率。

根据本实用新型的晶圆加工设备包括：晶圆缓存模块和两个晶圆加工系统，两个所述晶圆加工系统相对设置且可独立工作，每个所述晶圆加工系统包括：抛光单元、第一机械手、传输单元、第二机械手和清洗单元，所述抛光单元和所述清洗单元相邻设置，所述清洗单元邻近所述晶圆缓存模块，所述第一机械手在所述晶圆缓存模块和所述传输单元之间以及所述传输单元和所述清洗单元之间运动，所述传输单元在所述第一机械手和所述第二机械手之间传输，所述第二机械手用于为所述抛光单元传输晶圆。

根据本实用新型的晶圆加工设备，通过晶圆缓存模块和两个晶圆加工系统配合，两个晶圆加工系统能够独立工作，互不影响，可以提高生产效率，并且，该晶圆加工设备的工艺更灵活，生产出的晶圆适应性更强。

在本实用新型的一些实施例中，每个所述晶圆加工系统包括两个所述抛光单元，两个抛光单元共用一个所述第二机械手。

在本实用新型的一些实施例中，每个所述抛光单元包括：抛光盘、抛光头和装卸平台，两个所述抛光单元的所述装卸平台均邻近所述第二机械手设置。

在本实用新型的一些实施例中，两个所述晶圆加工系统的所述抛光单元之间形成有传输通道，两个所述晶圆加工系统的所述传输单元均设置在所述传输通道内。

在本实用新型的一些实施例中，两个所述晶圆加工系统的所述抛光单元关于所述传输通道对称布置。

在本实用新型的一些实施例中，每个所述清洗单元包括：清洗模块、干燥模块、竖直缓存模块和翻转模块，所述清洗模块、所述干燥模块、所述竖直缓存模块和所述翻转模块并排布置。

在本实用新型的一些实施例中，所述竖直缓存模块的侧向设置有供晶圆进出的开口。

在本实用新型的一些实施例中，每个所述清洗单元还包括：第三机械手和第四机械手，所述第三机械手在所述清洗模块和所述竖直缓存模块的上方移动，所述第四机械手在所述清洗模块、所述干燥模块和所述翻转模块的上方移动。

在本实用新型的一些实施例中，所述第一机械手从所述晶圆缓存模块拿取所述晶圆后，所述第一机械手翻转使所述晶圆正面朝下且将翻转后的所述晶圆放置在所述传输单元。

在本实用新型的一些实施例中，两个所述晶圆加工系统的所述清洗单元之间留有布置空间，两个所述第一机械手和所述晶圆缓存模块设置在所述布置空间。