[实用新型]一种嵌入式双层结构碳化硅托盘有效

专利信息
申请号: 201821121917.7 申请日: 2018-07-16
公开(公告)号: CN208336182U 公开(公告)日: 2019-01-04
发明(设计)人: 徐姗姗;吴疆;丁磊 申请(专利权)人: 安徽芯瑞达科技股份有限公司
主分类号: H01L21/683 分类号: H01L21/683;H01L33/00
代理公司: 北京和信华成知识产权代理事务所(普通合伙) 11390 代理人: 胡剑辉
地址: 230000 安徽省合肥市经*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 晶圆槽 盘体上表面 托盘 本实用新型 矩阵分布 双层结构 嵌入式 缺口槽 碳化硅 盘体 镊子 产能 晶圆 取放 制造
【说明书】:

实用新型公开一种嵌入式双层结构碳化硅托盘,包括盘体、第一晶圆槽、第二晶圆槽;所述盘体上表面设置有第一晶圆槽,若干第一晶圆槽在盘体上表面呈矩阵分布排列;相邻四个第一晶圆槽之间的盘体上表面设置有第二晶圆槽,若干第二晶圆槽在盘体上表面呈矩阵分布排列;所述第一晶圆槽的深度比所述第二晶圆槽的深度深,第一晶圆槽的深度为第二晶圆槽深度的两倍;所述第一晶圆槽一侧设置有夹放缺口槽,夹放缺口槽深度与第一晶圆槽深度相同;所述盘体的形状为立方体。本实用新型具有方便镊子取放托盘内的晶圆,提升LED芯片的制造效率和产能的特点。

技术领域

本实用新型涉及一种嵌入式双层结构碳化硅托盘,尤其是一种具有方便镊子取放托盘内的晶圆,提升LED芯片的制造效率和产能的嵌入式双层结构碳化硅托盘。

背景技术

LED芯片制造工艺过程中,需要溅射ITO薄膜,形成透明导电的ITO作为LED的电流扩展层;在溅射镀膜后,需要进行快速退火热处理,以降低ITO与LED外延层之间的欧姆电阻。快速退火热处理设备又叫快速退火炉,将晶圆放置在碳化硅托盘上,托盘进入退火炉中,便可以进行热处理。

现有的快速退火炉内空间有限,无法放入过多的碳化硅托盘,即无法放入过多的晶圆;如何能够在现有的退火炉中放入更多的晶圆,提升LED芯片制造的效率和产量,是当前LED芯片制造行业所需的有效产能提升手段。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种具有方便镊子取放托盘内的晶圆,提升LED芯片的制造效率和产能的嵌入式双层结构碳化硅托盘。

本实用新型的目的可以通过以下技术方案实现:

一种嵌入式双层结构碳化硅托盘,包括盘体、第一晶圆槽、第二晶圆槽;

所述盘体上表面设置有第一晶圆槽,若干第一晶圆槽在盘体上表面呈矩阵分布排列;相邻四个第一晶圆槽之间的盘体上表面设置有第二晶圆槽,若干第二晶圆槽在盘体上表面呈矩阵分布排列;

所述第一晶圆槽的深度比所述第二晶圆槽的深度深,第一晶圆槽的深度为第二晶圆槽深度的两倍;

所述第一晶圆槽一侧设置有夹放缺口槽,夹放缺口槽深度与第一晶圆槽深度相同;

所述盘体的形状为立方体;所述第一晶圆槽的形状、所述第二晶圆槽的形状均匀圆柱形槽;第一晶圆槽的直径与第二晶圆槽的直径相同;第一晶圆槽的直径比放入第一晶圆槽内的晶圆直径略大;

若干所述第一晶圆槽底面齐平;若干所述第二晶圆槽底面齐平;

第一晶圆槽、第二晶圆槽、夹放缺口槽均垂直于盘体的上表面。

本实用新型提供了一种嵌入式双层结构碳化硅托盘,具有方便镊子取放托盘内的晶圆,提升LED芯片的制造效率和产能的特点。本实用新型的有益效果:本实用新型的盘体上表面设置有第一晶圆槽,若干第一晶圆槽在盘体上表面呈矩阵分布排列;相邻四个第一晶圆槽之间的盘体上表面设置有第二晶圆槽,若干第二晶圆槽在盘体上表面呈矩阵分布排列;第一晶圆槽、第二晶圆槽均可放置晶圆,比传统托盘多了一层晶圆放置的第二晶圆槽,提升盘体的晶圆容纳量,增加快速退火炉的利用率,提升LED芯片制造的效率和产量;本实用新型的盘体上表面的第一晶圆槽直径、第二晶圆槽直径均比放入的晶圆直径略大,便于用镊子放入或拿取第一晶圆槽、第二晶圆槽里的晶圆;且第一晶圆槽的边缘设置有夹放缺口槽,镊子通过夹放缺口槽放入或拿取第一晶圆槽晶圆槽内的晶圆;第二晶圆槽边缘第一晶圆槽上的空缺,便于镊子通过空缺放入或拿取第二晶圆槽晶圆槽内的晶圆。

附图说明

为了便于本领域技术人员理解,下面结合附图对本实用新型作进一步的说明。

图1为本实用新型一种嵌入式双层结构碳化硅托盘的结构示意图;

图2为本实用新型一种嵌入式双层结构碳化硅托盘的侧截面图。

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