[实用新型]一种嵌入式双层结构碳化硅托盘有效
申请号: | 201821121917.7 | 申请日: | 2018-07-16 |
公开(公告)号: | CN208336182U | 公开(公告)日: | 2019-01-04 |
发明(设计)人: | 徐姗姗;吴疆;丁磊 | 申请(专利权)人: | 安徽芯瑞达科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/683 | 分类号: | H01L21/683;H01L33/00 |
代理公司: | 北京和信华成知识产权代理事务所(普通合伙) 11390 | 代理人: | 胡剑辉 |
地址: | 230000 安徽省合肥市经*** | 国省代码: | 安徽;34 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 晶圆槽 盘体上表面 托盘 本实用新型 矩阵分布 双层结构 嵌入式 缺口槽 碳化硅 盘体 镊子 产能 晶圆 取放 制造 | ||
本实用新型公开一种嵌入式双层结构碳化硅托盘,包括盘体、第一晶圆槽、第二晶圆槽;所述盘体上表面设置有第一晶圆槽,若干第一晶圆槽在盘体上表面呈矩阵分布排列;相邻四个第一晶圆槽之间的盘体上表面设置有第二晶圆槽,若干第二晶圆槽在盘体上表面呈矩阵分布排列;所述第一晶圆槽的深度比所述第二晶圆槽的深度深,第一晶圆槽的深度为第二晶圆槽深度的两倍;所述第一晶圆槽一侧设置有夹放缺口槽,夹放缺口槽深度与第一晶圆槽深度相同;所述盘体的形状为立方体。本实用新型具有方便镊子取放托盘内的晶圆,提升LED芯片的制造效率和产能的特点。
技术领域
本实用新型涉及一种嵌入式双层结构碳化硅托盘,尤其是一种具有方便镊子取放托盘内的晶圆,提升LED芯片的制造效率和产能的嵌入式双层结构碳化硅托盘。
背景技术
LED芯片制造工艺过程中,需要溅射ITO薄膜,形成透明导电的ITO作为LED的电流扩展层;在溅射镀膜后,需要进行快速退火热处理,以降低ITO与LED外延层之间的欧姆电阻。快速退火热处理设备又叫快速退火炉,将晶圆放置在碳化硅托盘上,托盘进入退火炉中,便可以进行热处理。
现有的快速退火炉内空间有限,无法放入过多的碳化硅托盘,即无法放入过多的晶圆;如何能够在现有的退火炉中放入更多的晶圆,提升LED芯片制造的效率和产量,是当前LED芯片制造行业所需的有效产能提升手段。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种具有方便镊子取放托盘内的晶圆,提升LED芯片的制造效率和产能的嵌入式双层结构碳化硅托盘。
本实用新型的目的可以通过以下技术方案实现:
一种嵌入式双层结构碳化硅托盘,包括盘体、第一晶圆槽、第二晶圆槽;
所述盘体上表面设置有第一晶圆槽,若干第一晶圆槽在盘体上表面呈矩阵分布排列;相邻四个第一晶圆槽之间的盘体上表面设置有第二晶圆槽,若干第二晶圆槽在盘体上表面呈矩阵分布排列;
所述第一晶圆槽的深度比所述第二晶圆槽的深度深,第一晶圆槽的深度为第二晶圆槽深度的两倍;
所述第一晶圆槽一侧设置有夹放缺口槽,夹放缺口槽深度与第一晶圆槽深度相同;
所述盘体的形状为立方体;所述第一晶圆槽的形状、所述第二晶圆槽的形状均匀圆柱形槽;第一晶圆槽的直径与第二晶圆槽的直径相同;第一晶圆槽的直径比放入第一晶圆槽内的晶圆直径略大;
若干所述第一晶圆槽底面齐平;若干所述第二晶圆槽底面齐平;
第一晶圆槽、第二晶圆槽、夹放缺口槽均垂直于盘体的上表面。
本实用新型提供了一种嵌入式双层结构碳化硅托盘,具有方便镊子取放托盘内的晶圆,提升LED芯片的制造效率和产能的特点。本实用新型的有益效果:本实用新型的盘体上表面设置有第一晶圆槽,若干第一晶圆槽在盘体上表面呈矩阵分布排列;相邻四个第一晶圆槽之间的盘体上表面设置有第二晶圆槽,若干第二晶圆槽在盘体上表面呈矩阵分布排列;第一晶圆槽、第二晶圆槽均可放置晶圆,比传统托盘多了一层晶圆放置的第二晶圆槽,提升盘体的晶圆容纳量,增加快速退火炉的利用率,提升LED芯片制造的效率和产量;本实用新型的盘体上表面的第一晶圆槽直径、第二晶圆槽直径均比放入的晶圆直径略大,便于用镊子放入或拿取第一晶圆槽、第二晶圆槽里的晶圆;且第一晶圆槽的边缘设置有夹放缺口槽,镊子通过夹放缺口槽放入或拿取第一晶圆槽晶圆槽内的晶圆;第二晶圆槽边缘第一晶圆槽上的空缺,便于镊子通过空缺放入或拿取第二晶圆槽晶圆槽内的晶圆。
附图说明
为了便于本领域技术人员理解,下面结合附图对本实用新型作进一步的说明。
图1为本实用新型一种嵌入式双层结构碳化硅托盘的结构示意图;
图2为本实用新型一种嵌入式双层结构碳化硅托盘的侧截面图。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于安徽芯瑞达科技股份有限公司,未经安徽芯瑞达科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201821121917.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种一体化晶片固定装置
- 下一篇:一种单片式清洗机及其卡盘
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造