[实用新型]一种带材多室连续式真空等离子体镀膜系统

权利要求书

1.一种带材多室连续式真空等离子体镀膜系统，其特征在于：包括真空镀膜室、抽真空装置、加热器、弧源发生器和涨缩头，涨缩头包括放卷涨缩头和收卷涨缩头，带材缠绕在放卷涨缩头上，带材的端部穿入真空镀膜室连接到收卷涨缩头，真空镀膜室分别连接抽真空装置，通过抽真空装置对真空镀膜室抽真空，真空镀膜室内设置加热器，弧源发生器均匀分布在真空镀膜室上，通过加热器对真空镀膜室加热后弧源发生器向带材溅射金属离子，弧源发生器与带材之间安装进气管，气体通过进气管流入真空镀膜室后与金属离子发生作用沉积在带材表面。

2.根据权利要求1所述的一种带材多室连续式真空等离子体镀膜系统，其特征在于：所述真空镀膜室包括放卷镀膜室和收卷镀膜室，放卷镀膜室和收卷镀膜室连通，放卷镀膜室和收卷镀膜室连通处设置纠偏装置，纠偏装置设置在真空镀膜室之间，纠偏装置包括转动轮和与转动轮连接的编码器，带材从纠偏装置上穿过，通过纠偏装置对带材的位置进行纠偏，放卷镀膜室内安装放卷涨缩头，收卷镀膜室内安装收卷涨缩头，缠绕在放卷涨缩头上的带材端部依次穿入放卷镀膜室和收卷涨缩头后连接到收卷涨缩头，放卷镀膜室和收卷镀膜室均设置加热器，加热器包括加热管和与加热管一体成型的热电偶，加热器分别等距离设置在放卷镀膜室和收卷镀膜室内，放卷镀膜室和收卷镀膜室上均分布弧源发生器，进气管分别等距离安装在放卷镀膜室和收卷镀膜室的内壁上，通过放卷镀膜室和收卷镀膜室对带材依次镀膜。

3.根据权利要求2所述的一种带材多室连续式真空等离子体镀膜系统，其特征在于：所述真空镀膜室还包括中间镀膜室，中间镀膜室位于放卷镀膜室与收卷镀膜室之间，中间镀膜室连接抽真空装置，中间镀膜室一端连接放卷镀膜室，中间镀膜室的另一端连接收卷镀膜室，中间镀膜室中也设置加热器，加热器包括加热管和与加热管一体成型的热电偶，中间镀膜室上也分布弧源发生器，中间镀膜室内壁也分布进气管，带材依次从放卷镀膜室传递到中间镀膜室和收卷镀膜室，通过放卷镀膜室、中间镀膜室和收卷镀膜室对带材依次镀膜。

4.根据权利要求3所述的一种带材多室连续式真空等离子体镀膜系统，其特征在于：所述中间镀膜室不止一个，中间镀膜室分别连接抽真空装置，中间镀膜室依次等距离设置在放卷镀膜室与收卷镀膜室之间，中间镀膜室之间依次连接，带材在中间镀膜室之间依次传递后传入到收卷镀膜室。

5.根据权利要求1所述的一种带材多室连续式真空等离子体镀膜系统，其特征在于：所述放卷涨缩头和收卷涨缩头分别设置在真空镀膜室外，放卷涨缩头位于放卷室内，收卷涨缩头位于收卷室内，放卷室和收卷室分别连接抽真空装置，通过抽真空装置对放卷室和收卷室分别抽真空，放卷室和收卷室分别位于真空镀膜室上方，缠绕在放卷涨缩头上的带材穿出放卷室穿过真空镀膜室后穿入收卷室的收卷涨缩头上。

6.根据权利要求1所述的一种带材多室连续式真空等离子体镀膜系统，其特征在于：所述真空镀膜室为圆形或者椭圆形，真空镀膜室的下方均设置底架，真空镀膜室分别通过底架支撑在地面上，真空镀膜室内均设置传动板和导带辊，加热器和导带辊分别均匀安装在传动板上，通过加热器对真空镀膜室内的带材加热，导带辊在传动板上转动，带材依次穿过导带辊，通过导带辊传递带材，真空镀膜室设置炉门，炉门与真空镀膜室铰接，炉门上套有密封圈，炉门通过密封圈与真空镀膜室密封，炉门上设置观察窗，工作人员通过观察窗查看真空镀膜室内的镀膜情况，真空镀膜室上设置真空检测装置，通过真空检测装置检测真空镀膜室内的真空度。

7.根据权利要求1所述的一种带材多室连续式真空等离子体镀膜系统，其特征在于：所述抽真空装置下方设置支架，抽真空装置分别通过支架安装在地面上，抽真空装置分别通过真空管道与真空镀膜室连接，真空管道上分别设置百叶窗，通过百叶窗调节真空管道内的排气情况，百叶窗通过百叶窗减速器连接百叶窗传动机，通过百叶窗减速器和百叶窗传动机调节百叶窗。