[实用新型]一种带材多室连续式真空等离子体镀膜系统

说明书

本实用新型公开了一种带材多室连续式真空等离子体镀膜系统，包括真空镀膜室、抽真空装置、加热器、弧源发生器和涨缩头，涨缩头包括放卷涨缩头和收卷涨缩头，带材缠绕在放卷涨缩头上，带材的端部穿入真空镀膜室连接到收卷涨缩头，真空镀膜室分别连接抽真空装置，通过抽真空装置对真空镀膜室抽真空，真空镀膜室内设置加热器，弧源发生器均匀分布在真空镀膜室上，通过加热器对真空镀膜室加热后弧源发生器向带材溅射金属离子，弧源发生器与带材之间安装进气管，气体通过进气管流入真空镀膜室后与金属离子发生作用沉积在带材表面。该镀膜系统实现了带材的连续单双面单一或复合膜层的沉积，应用范围非常广泛，可满足各种镀层需求。

技术领域

本实用新型属于真空等离子体镀膜设备技术领域，具体涉及一种带材多室连续式真空等离子体镀膜系统。

背景技术

现有技术对连续板状或带状产品进行镀膜加工的真空等离子体镀膜设备，技术落后，能耗高，膜厚不均匀，产量低，收卷不齐，并且同时只能连续一次单面镀膜，不能同时双面镀膜，又不能同时在带材同一面连续镀不同膜层和不同膜厚，同时真空镀膜室不能随意扩展等缺点。

为了解决在真空环境下带材和板材表面连续单面镀同一涂层、连续单面镀复合涂层或连续单面镀不同膜厚的复合涂层，以及解决连续正反面镀同一涂层、正反面镀不同涂层、正反面镀同一涂层不同膜厚、正反面镀不同涂层不同膜厚的性能要求，研发了该带材多室连续式真空等离子体镀膜系统。

发明内容

为了解决在真空环境下带材和板材表面连续单面镀同一涂层、连续单面镀复合涂层或连续单面镀不同膜厚的复合涂层，以及解决连续正反面镀同一涂层、正反面镀不同涂层、正反面镀同一涂层不同膜厚、正反面镀不同涂层不同膜厚的性能要求问题，本实用新型提出了一种带材多室连续式真空等离子体镀膜系统，采用该系统镀膜使得涂层连续沉积在带材和板材的表面，沉积的涂层厚度均匀，并且沉积复杂涂层效果好、效率高。

本实用新型的目的通过以下技术方案实现：一种带材多室连续式真空等离子体镀膜系统，包括真空镀膜室、抽真空装置、加热器、弧源发生器和涨缩头，涨缩头包括放卷涨缩头和收卷涨缩头，带材缠绕在放卷涨缩头上，带材的端部穿入真空镀膜室连接到收卷涨缩头，真空镀膜室分别连接抽真空装置，通过抽真空装置对真空镀膜室抽真空，真空镀膜室内设置加热器，弧源发生器均匀分布在真空镀膜室上，通过加热器对真空镀膜室加热后弧源发生器向带材溅射金属离子，弧源发生器与带材之间安装进气管，气体通过进气管流入真空镀膜室后与金属离子发生作用沉积在带材表面，进气管上安装流量计，通过流量计检测进气管内的流量大小。

优选的，所述的一种带材多室连续式真空等离子体镀膜系统，所述真空镀膜室为圆形或者椭圆形，提高了镀膜的连续性和镀膜气体的均匀性，保证了镀膜效率，特别是解决了对带材连续式的镀膜困难的难题。

优选的，所述的一种带材多室连续式真空等离子体镀膜系统，所述真空镀膜室包括放卷镀膜室和收卷镀膜室，放卷镀膜室和收卷镀膜室连通，放卷镀膜室和收卷镀膜室连通处设置纠偏装置，纠偏装置设置在真空镀膜室之间，纠偏装置包括转动轮和与转动轮连接的编码器，带材从纠偏装置上穿过，通过纠偏装置对带材的位置进行纠偏，放卷镀膜室内安装放卷涨缩头，收卷镀膜室内安装收卷涨缩头，缠绕在放卷涨缩头上的带材端部依次穿入放卷镀膜室和收卷涨缩头后连接到收卷涨缩头，放卷镀膜室和收卷镀膜室均设置加热器，加热器包括加热管和与加热管一体成型的热电偶，加热器分别等距离设置在放卷镀膜室和收卷镀膜室内，放卷镀膜室和收卷镀膜室上均分布弧源发生器，进气管分别等距离安装在放卷镀膜室和收卷镀膜室的内壁上，通过放卷镀膜室和收卷镀膜室对带材依次镀膜。