[实用新型]一种用于真空镀膜的颗粒物清洁系统有效
| 申请号： | 201821166799.1 | 申请日： | 2018-07-23 |
| 公开（公告）号： | CN208776820U | 公开（公告）日： | 2019-04-23 |
| 发明（设计）人： | 林雨 | 申请（专利权）人： | 东泰高科装备科技（北京）有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/02 | 分类号： | C23C14/02 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 王莹;吴欢燕 |
| 地址： | 102209 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 离子风棒 清洁系统 真空镀膜 颗粒物 真空镀膜设备 本实用新型 待镀膜基板 离子发生器 入口处 腔室 半导体生产技术 细小颗粒物 静电 良品率 竖直 去除 | ||
1.一种用于真空镀膜的颗粒物清洁系统，其特征在于：至少包括离子风棒以及与所述离子风棒连接的离子发生器，其中所述离子风棒安装在真空镀膜设备的腔室入口处。
2.根据权利要求1所述的用于真空镀膜的颗粒物清洁系统，其特征在于：所述离子风棒的出风口的出风方向与待镀膜基板表面之间的夹角为30～60°。
3.根据权利要求1所述的用于真空镀膜的颗粒物清洁系统，其特征在于：还包括控制器，所述控制器与所述离子发生器相连。
4.根据权利要求3所述的用于真空镀膜的颗粒物清洁系统，其特征在于：还包括光电传感器，所述光电传感器安装在所述真空镀膜设备上靠近大气门的位置处，所述光电传感器与所述控制器相连。
5.根据权利要求4所述的用于真空镀膜的颗粒物清洁系统，其特征在于：还包括与所述控制器相连的气源，所述气源通过送气管路与所述离子风棒相连。
6.根据权利要求5所述的用于真空镀膜的颗粒物清洁系统，其特征在于：所述气源为CDA气源或氮气气源。
7.根据权利要求5所述的用于真空镀膜的颗粒物清洁系统，其特征在于：所述送气管路上设有电磁阀。
8.根据权利要求7所述的用于真空镀膜的颗粒物清洁系统，其特征在于：所述电磁阀与所述控制器相连。
9.根据权利要求3所述的用于真空镀膜的颗粒物清洁系统，其特征在于：所述控制器为定时程序控制器或PLC控制器。
10.根据权利要求1所述的用于真空镀膜的颗粒物清洁系统，其特征在于：所述离子风棒设有固定架，所述固定架通过连接件安装在所述真空镀膜设备的腔室入口处。
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