[实用新型]一种用于真空镀膜的颗粒物清洁系统

说明书

本实用新型涉及半导体生产技术领域，尤其涉及一种用于真空镀膜的颗粒物清洁系统。该用于真空镀膜的颗粒物清洁系统至少包括离子风棒以及与所述离子风棒连接的离子发生器，其中所述离子风棒安装在真空镀膜设备的腔室入口处。本实用新型所述的用于真空镀膜的颗粒物清洁系统，通过在真空镀膜设备的腔室入口处沿竖直向安装离子风棒，将离子风棒与离子发生器相连，使得待镀膜基板在进入真空镀膜设备过程中，能够通过离子风棒有效的去除待镀膜基板的静电和细小颗粒物，进而提高良品率。

技术领域

本实用新型涉及半导体生产技术领域，尤其涉及一种用于真空镀膜的颗粒物清洁系统。

背景技术

目前，产品从前工序进入真空镀膜设备之前，例如PVD(Physical VaporDeposition，物理气相沉积)镀膜设备之前，需要搬送较长距离和等待一段时间，期间没有减少静电和细小颗粒物的措施，由于待镀膜基板表面上存在静电和细小颗粒物，在进行PVD镀膜时，会影响膜层的均匀性和导电性，从而降低良品率。

实用新型内容

(一)要解决的技术问题

本实用新型的目的是提供一种用于真空镀膜的颗粒物清洁系统，能够使得待镀膜基板在镀膜前有效去除存在的静电和细小颗粒物。

(二)技术方案

为了解决上述技术问题，本实用新型提供了一种用于真空镀膜的颗粒物清洁系统，至少包括离子风棒以及与所述离子风棒连接的离子发生器，其中所述离子风棒安装在真空镀膜设备的腔室入口处。

具体地，所述离子风棒的出风口的出风方向与待镀膜基板表面之间的夹角为30～60°。

进一步地，还包括控制器，所述控制器与所述离子发生器相连。

进一步地，还包括光电传感器，所述光电传感器安装在所述真空镀膜设备上靠近大气门的位置处，所述光电传感器与所述控制器相连。

进一步地，还包括与所述控制器相连的气源，所述气源通过送气管路与所述离子风棒相连。

具体地，所述气源为CDA气源或氮气气源。

进一步地，所述送气管路上设有电磁阀。

具体地，所述电磁阀与所述控制器相连。

具体地，所述控制器为定时程序控制器或PLC控制器。

具体地，所述离子风棒设有固定架，所述固定架通过连接件安装在所述真空镀膜设备的腔室入口处。

(三)有益效果

本实用新型的上述技术方案具有如下优点：

本实用新型提供的用于真空镀膜的颗粒物清洁系统，通过在真空镀膜设备的腔室入口处安装离子风棒，将离子风棒与离子发生器相连，使得待镀膜基板在进入真空镀膜设备过程中，能够通过离子风棒有效的去除待镀膜基板的静电和细小颗粒物，进而提高良品率。

附图说明

图1是本实用新型实施例用于真空镀膜的颗粒物清洁系统的结构示意图；

图2是本实用新型实施例用于真空镀膜的颗粒物清洁系统的离子风棒安装示意图。

图中：1：离子风棒；2：离子发生器；3：真空镀膜设备；301：腔室入口；4：控制器；5：光电传感器；6：气源；7：电磁阀；8：待镀膜基板。

具体实施方式