[实用新型]一种窄带滤光片及光学系统有效
| 申请号： | 201821191900.9 | 申请日： | 2018-07-25 |
| 公开（公告）号： | CN208477138U | 公开（公告）日： | 2019-02-05 |
| 发明（设计）人： | 陈信源;何伟峰;温勇健 | 申请（专利权）人： | 广州市佳禾光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/22 | 分类号： | G02B5/22;G02B5/20;G02B1/115 |
| 代理公司： | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人： | 谭英强;郑泽萍 |
| 地址： | 510535 广东省广州*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 窄带滤光片 光学系统 滤光 本实用新型 二氧化硅层 抗反射叠层 交替堆叠 叠层 吸收 红外光波段 基层 滤光效果 制造工艺 硅层 钛层 带宽 应用 | ||
【权利要求书】：
1.一种窄带滤光片，其特征在于，包括吸收基层、设置在吸收基层下方的滤光叠层以及设置在吸收基层上方的抗反射叠层；
所述抗反射叠层由五氧化三钛层和二氧化硅层交替堆叠构成；
所述滤光叠层由二氧化硅层和硅层交替堆叠构成。
2.根据权利要求1所述的一种窄带滤光片，其特征在于，所述吸收基层由玻璃基材以及涂覆在玻璃基材表面的用于吸收可见光及部分红外光的吸收层构成。
3.根据权利要求2所述的一种窄带滤光片，其特征在于，所述吸收层的厚度为1～10um。
4.根据权利要求1所述的一种窄带滤光片，其特征在于，所述抗反射叠层中，五氧化三钛层和二氧化硅层的总层数为4～10层。
5.根据权利要求1所述的一种窄带滤光片，其特征在于，所述抗反射叠层中，每个五氧化三钛层的单层厚度为30～200nm，每个二氧化硅层的单层厚度为30～250nm。
6.根据权利要求1所述的一种窄带滤光片，其特征在于，所述滤光叠层中，二氧化硅层和硅层的总层数为36～44层。
7.根据权利要求1所述的一种窄带滤光片，其特征在于，所述滤光叠层中，每个二氧化硅层的单层厚度为80～300nm，每个硅层的单层厚度为20～80nm。
8.一种光学系统，其特征在于，应用权利要求1-7任一项所述的窄带滤光片。
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