[实用新型]一种用于物理气相沉积的电介质沉积的设备

权利要求书

1.一种用于物理气相沉积的电介质沉积的设备，包括装置外壳(1)和抽真空装置(7)，所述装置外壳(1)位于抽真空装置(7)正上方位置处，所述装置外壳(1)与抽真空装置(7)焊接固定，且所述装置外壳(1)与抽真空装置(7)之间相连通，其特征在于：所述装置外壳(1)上表面中心位置处设置有控制系统(2)，所述控制系统(2)与装置外壳(1)上表面中心位置固定连接，所述装置外壳(1)内部下底端位置处设置有真空镀膜室(4)，所述真空镀膜室(4)固定于装置外壳(1)内底端中心处，所述真空镀膜室(4)上顶面设置有固定底板(3)，所述固定底板(3)与真空镀膜室(4)上顶面焊接固定，所述固定底板(3)两侧顶端位置处与装置外壳(1)内壁焊接固定，所述真空镀膜室(4)内部上顶面位置处设置有基材固定架(16)，所述基材固定架(16)上顶面与固定底板(3)螺钉连接，所述真空镀膜室(4)两侧位置处设置有电热管(17)，所述电热管(17)上顶端与固定底板(3)固定连接，所述真空镀膜室(4)内部中心位置处设置有靶材(18)，所述靶材(18)外端面缠绕有钨丝(19)，所述靶材(18)两侧端中心位置设置有高电流线路(20)，所述基材固定架(16)下表面两侧端位置处设置有滑动导轨(21)，所述滑动导轨(21)两侧端与基材固定架(16)内壁焊接固定，所述滑动导轨(21)共有两组，所述基材固定架(16)中心位置设置有基材固定板(22)，所述基材固定板(22)四角位置处设置有滑块(24)，所述滑块(24)与基材固定板(22)螺钉连接，所述真空镀膜室(4)下底面一侧位置处固定连接有预抽真空管道(5)，所述预抽真空管道(5)连通至装置外壳(1)外端，所述预抽真空管道(5)中心位置处设置有真空电磁阀(6)，所述真空电磁阀(6)与预抽真空管道(5)固定连接，所述预抽真空管道(5)下底端与抽真空装置(7)焊接固定，且所述预抽真空管道(5)下底端与抽真空装置(7)内部连通，所述抽真空装置(7)内部下底面一侧端设置有高真空抽气管道(12)，所述高真空抽气管道(12)外顶端位置处设置有真空泵(13)，所述真空泵(13)与高真空抽气管道(12)焊接固定，所述高真空抽气管道(12)上顶端焊接固定有缓冲管道(11)，所述缓冲管道(11)上顶端位置处设置有高真空阀(9)，且所述高真空阀(9)与预抽真空管道固定连通，所述高真空阀(9)内部一侧固定连接有水冷循环管(10)，所述高真空阀(9)与缓冲管道(11)焊接固定，所述高真空阀(9)另一侧顶端连通有排气管道(15)，所述排气管道(15)与高真空阀(9)固定连接，所述排气管道(15)中心位置处设置有排气阀(14)，所述排气阀(14)与排气管道(15)外壁固定连接。

2.根据权利要求1所述的一种用于物理气相沉积的电介质沉积的设备，其特征在于：所述装置外壳(1)上部两侧壁中心位置处设置有电源箱(8)，所述电源箱(8)与装置外壳(1)固定连接。

3.根据权利要求1所述的一种用于物理气相沉积的电介质沉积的设备，其特征在于：所述电热管(17)呈弧形，所述靶材(18)通过高电流线路(20)与电源箱(8)电性连接。

4.根据权利要求1所述的一种用于物理气相沉积的电介质沉积的设备，其特征在于：所述基材固定板(22)内表面外端边缘位置处设置有弹簧板夹(23)，所述弹簧板夹(23)与基材固定板(22)螺钉连接，且所述弹簧板夹(23)共有四组。

5.根据权利要求1所述的一种用于物理气相沉积的电介质沉积的设备，其特征在于：所述滑块(24)套接与滑动导轨(21)外表面，所述滑块(24)共有四组，且所述基材固定板(22)通过滑块(24)与滑动导轨(21)滑动连接。

6.根据权利要求4所述的一种用于物理气相沉积的电介质沉积的设备，其特征在于：所述基材固定板(22)中心位置处固定基材，所述弹簧板夹(23)压固基材。

7.根据权利要求1所述的一种用于物理气相沉积的电介质沉积的设备，其特征在于：所述基材固定板(22)与靶材(18)垂直位置处于同一轴线。