[实用新型]一种近红外窄带滤光片及红外成像系统

权利要求书

1.一种近红外窄带滤光片，其特征在于，包括：基板(11)，设置在所述基板(11)一侧的IR膜系(12)；

所述IR膜系(12)包括交替镀制的第一高折射率膜层(121)和第一低折射率膜层(122)，所述IR膜系(12)的最外层均为第一低折射率膜层(122)；在800～1200nm的波长范围内，所述IR膜系(12)具有一个通带波段、两个过渡波段和两个截止波段，所述通带波段位于两个所述两个截止波段之间，所述过渡波段位于所述通带波段与所述截止波段之间；

所述通带波段具有中心波长，且在入射角从0°改变至30°的范围内，所述通带波段的中心波长漂移幅度介于7nm～13nm之间。

2.根据权利要求1所述的近红外窄带滤光片，其特征在于，在入射角从20°改变至30°的范围内，入射角每变化1°，所述通带波段的中心波长漂移幅度小于5nm。

3.根据权利要求2所述的近红外窄带滤光片，其特征在于，所述通带波段带宽小于400nm。

4.根据权利要求3所述的近红外窄带滤光片，其特征在于，在800～1200nm的波长范围内，所述通带波段透过率大于90％，所述截止波段透过率小于0.1％。

5.根据权利要求4所述的近红外窄带滤光片，其特征在于，所述通带波段UV侧和IR侧曲线陡度介于7nm～13nm之间。

6.根据权利要求1至5任一所述的近红外窄带滤光片，其特征在于，所述第一高折射率膜层(121)为氢化硅层；

在800～1200nm的波长范围内，所述第一高折射率膜层(121)的折射率大于3.5，且消光系数小于0.002。

7.根据权利要求6所述的近红外窄带滤光片，其特征在于，在850nm波长处，所述第一高折射率膜层(121)折射率大于3.6；

在940nm波长处，所述第一高折射率膜层(121)折射率大于3.55。

8.根据权利要求6所述的近红外窄带滤光片，其特征在于，所述第一高折射率膜层(121)为溅射反应膜层，在氢气存在的条件下，其溅射反应温度为80℃～300℃，溅射速率为0.1nm/s≤v≤1nm/s。

9.根据权利要求8所述的近红外窄带滤光片，其特征在于，所述氢气以可调整的流量引入，且其流量满足10sccm≤v1≤50sccm。

10.根据权利要求1或9所述的近红外窄带滤光片，其特征在于，所述第一高折射率膜层(121)和所述第一低折射率膜层(122)的物理厚度关系满足：0.01≤D_L/D_H≤100，其中，D_L、D_H分别表示第一低折射率膜层和第一高折射率膜层的物理厚度。

11.根据权利要求1所述的近红外窄带滤光片，其特征在于，在入射角从0°改变至10°的范围内，所述通带波段的中心波长漂移幅度介于0.5nm～1.5nm之间，入射角每变化1°，所述通带波段的中心波长漂移幅度小于1.5nm；

在入射角从0°改变至20°的范围内，所述通带波段的中心波长漂移幅度介于2.5nm～8nm之间，从10°改变至20°的范围内，入射角每变化1°，所述通带波段的中心波长漂移幅度小于6nm；

在入射角从0°改变至40°的范围内，所述通带波段的中心波长漂移幅度介于12nm～20nm之间，从0°改变至10°的范围内，入射角每变化1°，所述通带波段的中心波长漂移幅度小于8nm。