[实用新型]一种近红外窄带滤光片及红外成像系统

说明书

本实用新型涉及一种近红外窄带滤光片及红外成像系统，其中近红外窄带滤光片包括：基板，设置在所述基板一侧的IR膜系；所述IR膜系包括交替镀制的第一高折射率膜层和第一低折射率膜层，所述IR膜系的最外层均为第一低折射率膜层；在800～1200nm的波长范围内，所述IR膜系具有一个通带波段、两个过渡波段和两个截止波段，所述通带波段位于两个所述两个截止波段之间，所述过渡波段位于所述通带波段与所述截止波段之间；所述通带波段具有中心波长，且在入射角从0°改变至30°的范围内，所述通带波段的中心波长漂移幅度介于7nm～13nm之间。在保证高透过率的前提下，降低窄带滤光片通带中心波长随角度漂移量，提高成像质量。

技术领域

本实用新型涉及一种滤光片及红外成像系统，尤其涉及一种近红外窄带滤光片及红外成像系统。

背景技术

随着科技的发展，在智能手机、车载激光雷达、安防门禁、智能家居、虚拟现实/增强现实/混合现实、3D体感游戏、3D摄像与显示等终端中逐步嵌入了人脸设备、手势识别等功能。

在人脸识别、手势识别时需要用到近红外窄带滤光片，其能起到增透铜带中近红外光线，截止环境中可见光的作用。通常近红外窄带滤光片包括两个膜系，分别为IR带通膜系和长波通AR膜系。然而现有技术中的滤光片对近红外光线的增透效果以及截止可见光的效果较差，同时存在膜系膜层厚度较厚的问题，从而导致将滤光片组装到人脸识别、手势识别等装置后，成像效果较差、识别精度不高。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种近红外窄带滤光片及红外成像系统，解决近红外滤光片成像效果差的问题。

为实现上述实用新型目的，本实用新型提供一种近红外窄带滤光片，包括：基板，设置在所述基板一侧的IR膜系；

所述IR膜系包括交替镀制的第一高折射率膜层和第一低折射率膜层，所述IR膜系的最外层均为第一低折射率膜层；在800～1200nm的波长范围内，所述IR膜系具有一个通带波段、两个过渡波段和两个截止波段，所述通带波段位于两个所述两个截止波段之间，所述过渡波段位于所述通带波段与所述截止波段之间；

所述通带波段具有中心波长，且在入射角从0°改变至30°的范围内，所述通带波段的中心波长漂移幅度介于7nm～13nm之间。

根据本实用新型的一个方面，在入射角从20°改变至30°的范围内，入射角每变化1°，所述通带波段的中心波长漂移幅度小于5nm。

根据本实用新型的一个方面，所述通带波段带宽小于400nm。

根据本实用新型的一个方面，在800～1200nm的波长范围内，所述通带波段透过率大于90％，所述截止波段透过率小于0.1％。

根据本实用新型的一个方面，所述通带波段UV侧和IR侧曲线陡度介于7nm～13nm之间。

根据本实用新型的一个方面，所述第一高折射率膜层为氢化硅层；

在800～1200nm的波长范围内，所述第一高折射率膜层的折射率大于3.5，且消光系数小于0.002。

根据本实用新型的一个方面，在850nm波长处，所述第一高折射率膜层折射率大于3.6；

在940nm波长处，所述第一高折射率膜层折射率大于3.55。

根据本实用新型的一个方面，所述第一高折射率膜层为溅射反应膜层，在氢气存在的条件下，其溅射反应温度为80℃～300℃，溅射速率为0.1nm/s≤v≤1nm/s。

根据本实用新型的一个方面，所述氢气以可调整的流量引入，且其流量满足10sccm≤v1≤50sccm。