[实用新型]静电式气浮平台有效
申请号: | 201821257961.0 | 申请日: | 2018-08-06 |
公开(公告)号: | CN208716401U | 公开(公告)日: | 2019-04-09 |
发明(设计)人: | 陈裕民 | 申请(专利权)人: | 御杰科技有限公司 |
主分类号: | B65G54/00 | 分类号: | B65G54/00 |
代理公司: | 北京汇泽知识产权代理有限公司 11228 | 代理人: | 关宇辰 |
地址: | 中国台湾新竹县竹东*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基板 工作表面 静电结构 气浮孔 气浮平台 静电 静电式 正向力 负向 分布设置 静电吸力 浮力 通电 平衡 | ||
一种静电式气浮平台,用以供一基板浮在该平台上方,包括一基座、以及一静电结构,基座具有一工作表面,且工作表面上设有多个气浮孔,静电结构分布设置于工作表面上并裸露出各气浮孔;其中,各气浮孔用以对所述基板提供正向力,而静电结构则于通电产生静电并对所述基板提供由静电造成的负向力。借由静电吸力形成的负向力而与正向力对所述基板产生的浮力作平衡。
技术领域
本实用新型与一种加工设备有关,尤指一种静电式气浮平台。
背景技术
以往在对于如玻璃等制品的基板加工作业上,主要通过一可提供气浮作用的平台对基板进行承载或运送等作业,并在以气浮承载的状态下进行加工及检测等。而传统此种气浮平台,通常于平台的表面设有多个气孔,并以气压吹气后使其表面形成一由空气形成的气垫层,借由该气垫层提供基板向上的浮力,从而便于前述的加工作业。
然而,由于单向地以向上气浮力对基板进行吹浮,往往造成空气在接触基板后使多余的空气影响基板的平稳性。因此,亦有通过双向气流的方式改善的问题,意即于平台上设置反向气孔,而前述气孔为正向并提供正向力,反向气孔则提供负向力,故可借由负向力将多余的空气快速吸出气垫层外,以避免影响基板的稳定。
但由于上述正向气孔与反向气孔同时于平台表面上提供作用,且一吹一吸的情况下容易造成彼此间的能量耗损,故在节能的考量下较不尽理想。
实用新型内容
本实用新型的主要目的,在于可提供一种静电式气浮平台,其通过静电场的吸附力对欲加工的基板提供负向力,进而减缓基板于因受正向力的碰撞而晃动的幅度,借以使基板在承受浮力时更为平稳,并可调整吹浮高度。
本实用新型的另一目的,在于可提供一种静电式气浮平台,由于以静电场的吸附力产生负向力,因此不会对以气压为主的正向力造成影响,故正向力无能量损耗的问题。
为了达成上述的目的,本实用新型提供一种静电式气浮平台,用以供一基板浮在该平台上方,包括一基座、以及一静电结构,基座具有一工作表面,且工作表面上设有多个气浮孔,静电结构分布设置于工作表面上并裸露出各气浮孔;其中,各气浮孔用以对所述基板提供正向力,而静电结构则于通电产生静电并对所述基板提供由静电造成的负向力。
其中,该静电结构由多个具有电介质的电子回路构成。
其中,所述电介质为陶瓷、有机材料或阳极氧化层。
其中,各所述气浮孔呈多排的排列于该工作表面上,且各所述电子回路则呈片状地介于各排的所述气浮孔之间。
其中,该基座的工作表面上凹设多个对应这些电子回路的埋槽,且这些电子回路分别埋设于各所述埋槽内。
其中,这些电子回路直接贴覆于该基座的工作表面上。
其中,该基座具有一延伸段,且该延伸段上亦设有气浮孔及静电结构。
其中,该延伸段上的该静电结构配置于该延伸段两个外侧处并沿其长度方向延伸,而该延伸段上的这些气浮孔则配置于内侧并沿长度方向排列。
其中,该延伸段上的该静电结构配置于该延伸段中间处并沿其长度方向延伸,而该延伸段上的这些气浮孔则配置于两侧处沿并沿长度方向排列。
其中,该静电结构由陶瓷、有机材料或阳极氧化层构成层状体,并披覆于该基座的工作表面上。
本实用新型的静电式气浮平台借由静电吸力形成的负向力而与正向力对所述基板产生的浮力作平衡。
附图说明
图1为本实用新型第一实施例的立体分解示意图。
图2为本实用新型第一实施例的使用状态示意图。
图3为本实用新型第一实施例于使用状态的断面剖视图。
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