[实用新型]自清扫真空管路系统有效

专利信息
申请号: 201821270547.3 申请日: 2018-08-08
公开(公告)号: CN208521911U 公开(公告)日: 2019-02-19
发明(设计)人: 栾剑峰;刘家桦;叶日铨 申请(专利权)人: 德淮半导体有限公司
主分类号: H01L21/683 分类号: H01L21/683
代理公司: 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 代理人: 余明伟
地址: 223300 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 真空管路 自清扫 真空管路系统 本实用新型 颗粒物 清洗控制装置 设备维护成本 真空控制装置 堵塞 第一开关 防止设备 清洗管路 清洗气体 供给源 真空泵
【说明书】:

实用新型提供了一种自清扫真空管路系统,包括:真空泵、真空管路、第一开关、清洗气体供给源、清洗管路、第二开关、真空控制装置及清洗控制装置。本实用新型可实现对真空管路的定期自清扫,避免了真空管路因颗粒物累积而堵塞,防止设备因真空管路中颗粒物堵塞而出现异常,同时也节省了设备维护成本。

技术领域

本实用新型涉及半导体制造领域,特别是涉及一种自清扫真空管路系统。

背景技术

在现今的半导体制造工艺中,半导体制造设备一般使用机械手臂来抓取晶圆。其中一些机械手臂需要依靠真空系统吸附晶圆。在机械手臂抓取晶圆的过程中,粘附在晶圆背面的颗粒物会被吸入真空系统的真空管路中。当吸入真空管路的颗粒物数量累积到一定程度时,就可能堵塞真空管路,造成设备报警,甚至导致晶圆破片。当前,一般依靠维护人员定期维护,人工拆卸并清扫真空管路,这不但耗费人力,也影响了设备产能。

因此,针对机械手臂中的真空管路定期清扫的应用需求,有必要提出一种新的自清扫真空管路系统,以解决上述问题。

实用新型内容

鉴于以上所述现有技术的缺点,本实用新型的目的在于提供一种新的自清扫真空管路系统,用于解决现有技术中机械手臂中的真空管路因颗粒累积而堵塞的问题。

为实现上述目的及其它相关目的,本实用新型提供一种自清扫真空管路系统,其特征在于,包括:

真空泵;

真空管路,一端与所述真空泵相连接,另一端延伸至机械手臂的抓取端;

第一开关,位于所述真空管路上;

清洗气体供给源;

清洗管路,一端与所述清洗气体供给源相连接,另一端与所述真空管路相连通;所述清洗管路与所述真空管路相连通的连接处位于所述第一开关远离所述真空泵的一侧;

第二开关,位于所述清洗管路上;

在机台端的所述机械手臂停止工作后控制所述第一开关关闭,并在所述机械手臂停止工作预定时间时发出反馈信号的真空控制装置,与所述第一开关及所述机台端相连接;

接收所述真空控制装置反馈的信号后控制所述第二开关工作的清洗控制装置,与所述真空控制装置及所述第二开关相连接。

作为本实用新型的一种优选方案,所述自清洗真空管路系统还包括压力侦测单元,所述压力侦测单元与所述真空管路相连通。

作为本实用新型的一种优选方案,所述清洗气体供给源包括清洁干燥空气供给源、氮气供给源或惰性气体供给源。

作为本实用新型的一种优选方案,所述自清扫真空管路系统还包括三通连接头,所述清洗管路经由所述三通连接头与所述真空管路相连通。

作为本实用新型的一种优选方案,所述真空控制装置包括:

接收所述机械手臂停止工作信号的第一接收单元,与所述机台端相连接;

在机台端的所述机械手臂停止工作后控制所述第一开关关闭的第一控制单元,与所述第一接收单元及所述第一开关相连接;

设定所述预定时间,并将所述机械手臂实际停止工作时间与所述预定时间进行比对的设定比对单元,与所述第一接收单元相连接;

在所述机械手臂停止工作预定时间时向所述清洗控制装置发出反馈信号的反馈单元,与所述设定比对单元及所述清洗控制装置相连接。

作为本实用新型的一种优选方案,所述清洗控制装置包括:

接收所述反馈单元发出的反馈信号的第二接收单元,与所述反馈单元相连接;

控制所述第二开关工作的第二控制单元,与所述第二接收单元及所述第二开关相连接。

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