[实用新型]一种用于电子工业用气体三氯化硼分析的色谱取样系统

说明书

本实用新型公开了一种用于电子工业用气体三氯化硼分析的色谱取样系统，包括氦气置换系统、文丘里真空泵系统以及色谱前处理系统；所述氦气置换系统包括氦气进口、开关阀a、开关阀b以及四通阀；所述文丘里真空系统包括文丘里真空泵、氮气进口以及废气出口，所述氮气进口与所述废气出口均与所述文丘里真空泵气路连接，所述文丘里真空泵通过开关阀d与所述三通阀b气路连接，本实用新型针对三氯化硼遇水分解问题，采用超纯氦气进行置换和吹扫进样管路，并对系统抽真空，通过吹扫‑真空置换几次后能够使进样系统的水分降至0.1ppm以下，针对三氯化硼不能进真空泵的问题，采用文丘里真空泵，氮气做吹扫气，能够避免三氯化硼分解堵塞问题。

技术领域

本实用新型涉及气体分析技术领域，具体为一种用于电子工业用气体三氯化硼分析的色谱取样系统。

背景技术

三氯化硼主要用于IC制造工艺中技术要求很高、对电路成品率影响很大的化学气相淀积(CVD)成膜过程以及等离子干法刻蚀过程，会对IC产品的品质带来很关键的作用，且不可以用其他电子气体代替。随着国内集成电路的快速发展，三氯化硼的需求量越来越高，三氯化硼的杂质含量和纯度会直接影响IC、电子元器件的质量、性能、技术指标和成品率。以往，5N以上的高纯三氯化硼国内尚不能生产，该级别产品完全依靠从美国、英国、日本等国外几家大公司进口，近年来随着国内工艺发展，目前国内也可提纯出5N的高纯三氯化硼，三氯化硼常温下遇水即可分解为氧化硼和氯化氢气体，氯化氢气体不仅会腐蚀进样气路，形成的氧化硼粉末也经常堵塞气路，在真空取样系统可以缓解三氯化硼的分解，但三氯化硼气体不能进普通活塞式真空泵(此种真空泵充满油)，因此三氯化硼的取样分析一直是色谱分析的一大难点。

实用新型内容

针对背景技术中存在的问题，本实用新型提供了一种用于电子工业用气体三氯化硼分析的色谱取样系统。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种用于电子工业用气体三氯化硼分析的色谱取样系统，包括氦气置换系统、文丘里真空泵系统以及色谱前处理系统；所述氦气置换系统包括氦气进口、开关阀a、开关阀b以及四通阀，所述氦气进口气路连接开关阀a，所述开关阀a气路连接有三通阀a，所三通阀a气路连接有三通阀b，所述三通阀b与所述开关阀b气路连接，所述开关阀b与所述四通阀气路连接，所述四通阀与所述色谱前处理系统气路连接，所述四通阀气路连接有氦气吹扫口与尾气出口，所述三通阀a气路连接有开关阀c，所述开关阀c气路连接有样品进口；所述文丘里真空系统包括文丘里真空泵、氮气进口以及废气出口，所述氮气进口与所述废气出口均与所述文丘里真空泵气路连接，所述文丘里真空泵通过开关阀d与所述三通阀b气路连接。

作为本实用新型一种优选的技术方案，还包括真空压力表，所述真空压力表通过三通阀c连接于所述三通阀a与所述三通阀b之间。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：本实用新型针对三氯化硼遇水分解问题，采用超纯氦气进行置换和吹扫进样管路，并对系统抽真空，通过吹扫-真空置换几次后能够使进样系统的水分降至0.1ppm以下，针对三氯化硼不能进真空泵的问题，采用文丘里真空泵，氮气做吹扫气，能够避免三氯化硼分解堵塞问题。

附图说明

图1为本实用新型吹扫状态下整体结构示意图；

图2为本实用新型进样状态下整体结构示意图；

图中：1-样品进口；2-开关阀c；3-三通阀a；4-氦气进口；5-开关阀a；6-真空压力表；7-三通阀c；8-三通阀b；9-开关阀d；10-氮气进口；11-文丘里真空泵；12-废气出口；13-开关阀b；14-四通阀；15-色谱前处理系统；16-尾气出口；17-氦气吹扫口。

具体实施方式