[实用新型]西瓜接穗培育装置

权利要求书

1.一种西瓜接穗培育装置，其特征在于：包括从下向上依次设置的保温层、恒温层、保湿层、营养层、纱网层、覆盖层，保温层为发热体，为西瓜接穗生长提供适宜温度，恒温层覆盖于保温层上方，以使保温层散发的热量均匀一致向上传递，保湿层为不透水层， 以对西瓜接穗生长提供水分，营养层为疏松基质层，纱网层覆盖于营养层上方，以将播撒于纱网层上的种子与营养层隔开，纱网层上开设网孔，供种子的根系向下生长至营养层内部，覆盖层为疏松基质层，以将种子覆盖。

2.如权利要求1所述的西瓜接穗培育装置，其特征在于：所述保温层为发热板，发热板的边缘通过导线与外部供电系统连接。

3.如权利要求1所述的西瓜接穗培育装置，其特征在于：还在保湿层内部设置若干组排水细管，排水细管均布在保湿层的上表面上，还在排水细管的侧壁上开设若干细孔、排水细管的端部外露在保湿层的外部，以将多余水分排出。

4.如权利要求3所述的西瓜接穗培育装置，其特征在于：还在外露在保湿层的外部的排水细管的端头设置封堵端盖。

5.如权利要求4所述的西瓜接穗培育装置，其特征在于：还在保湿层内部设置湿度传感器，湿度传感器靠近保湿层的上表面设置，以检测营养层内的水分含量。

6.如权利要求1所述的西瓜接穗培育装置，其特征在于：所述保温层为金属保温板，在金属保温板上开设若干多边形孔，还在多边形孔的边缘上设置延伸板，延伸板向金属保温板上延伸，以使延伸板的高度高于金属保温板的平面。

7.如权利要求1所述的西瓜接穗培育装置，其特征在于：覆盖层为湿润珍珠岩层。

8.如权利要求1所述的西瓜接穗培育装置，其特征在于：还在覆盖层上方设置遮光层。

9.如权利要求8所述的西瓜接穗培育装置，其特征在于：还在遮光层上方设置氛围加热灯。