[实用新型]西瓜接穗培育装置

说明书

一种西瓜接穗培育装置，包括从下向上依次设置的保温层、恒温层、保湿层、营养层、纱网层、覆盖层，保温层为发热体，为西瓜接穗生长提供适宜温度，恒温层覆盖于保温层上方，以使保温层散发的热量均匀一致向上传递，保湿层为不透水层，以对西瓜接穗生长提供水分，营养层为疏松基质层，纱网层覆盖于营养层上方，以将播撒于纱网层上的种子与营养层隔开，纱网层上开设网孔，供种子的根系向下生长至营养层内部，覆盖层为疏松基质层，以将种子覆盖，本实用新型中，在西瓜接穗长成后，西瓜的根系生长在纱网层的下方，在拔出时，由于纱网层的阻挡作用，使得西瓜接穗根须上附着的培养土或基质物质被滤下，不会随着西瓜茎被带出。

技术领域

本实用新型涉及接穗育苗技术领域，尤其涉及一种西瓜接穗培育装置。

背景技术

将西瓜苗嫁接于南瓜砧木上，形成的果实口感较好，而且在西瓜苗生长过程中，吸收了南瓜苗抗病毒的优点，使得嫁接后的瓜苗成活率高，所以，西瓜苗嫁接南瓜苗得到了广泛的推广应用。

西瓜苗在生长至子叶分开后，真叶长度为2cm作用时，被选做接穗的时机是最好的，操作时，先将西瓜苗从培养基质中拔出，采用美工刀将子叶以下5cm作用的茎切割，形成嫁接面，插入南瓜砧木的插孔中，形成嫁接苗。

通常，西瓜苗在培养基质中生长后，根系向基质中延伸生长，在拔出时，根系上往往携带粘结很多培养土或基质物质，不仅造成西瓜苗不干净，而且西瓜苗携带的这些培养土或基质物质被随着茎的切割就被剔除掉，也造成了这些培养土或基质物质的浪费。

发明内容

有必要提出一种西瓜接穗培育装置。

一种西瓜接穗培育装置，包括从下向上依次设置的保温层、恒温层、保湿层、营养层、纱网层、覆盖层，保温层为发热体，为西瓜接穗生长提供适宜温度，恒温层覆盖于保温层上方，以使保温层散发的热量均匀一致向上传递，保湿层为不透水层， 以对西瓜接穗生长提供水分，营养层为疏松基质层，纱网层覆盖于营养层上方，以将播撒于纱网层上的种子与营养层隔开，纱网层上开设网孔，供种子的根系向下生长至营养层内部，覆盖层为疏松基质层，以将种子覆盖。

优选的，所述保温层为发热板，发热板的边缘通过导线与外部供电系统连接。

优选的，还在保湿层内部设置若干组排水细管，排水细管均布在保湿层的上表面上，还在排水细管的侧壁上开设若干细孔、排水细管的端部外露在保湿层的外部，以将多余水分排出。

优选的，还在外露在保湿层的外部的排水细管的端头设置封堵端盖。

优选的，还在保湿层内部设置湿度传感器，湿度传感器靠近保湿层的上表面设置，以检测营养层内的水分含量。

优选的，所述保温层为金属保温板，在金属保温板上开设若干多边形孔，还在多边形孔的边缘上设置延伸板，延伸板向金属保温板上延伸，以使延伸板的高度高于金属保温板的平面。

优选的，覆盖层为湿润珍珠岩层。

优选的，还在覆盖层上方设置遮光层。

优选的，还在遮光层上方设置氛围加热灯。

本实用新型中，在西瓜接穗长成后，拔出需要嫁接时，西瓜的根系生长在纱网层的下方，在拔出时，由于纱网层的阻挡作用，使得西瓜接穗根须上附着的培养土或基质物质被滤下，不会随着西瓜茎被带出。

附图说明

图1为西瓜接穗培育装置的结构示意图。

图2为利用本实用新型的西瓜接穗培育装置培育的西瓜接穗生长状态示意图。

图3为保温层的结构示意图。

图4为保温层剖视示意图。