[实用新型]精细金属掩模的制造系统

权利要求书

1.一种精细金属掩模的制造系统，其特征在于，包括：

一溅镀设备，适于溅镀形成一金属层于一玻璃基板上；

一第一图案化光阻成形设备，邻接于该溅镀设备，适于形成一第一图案化光阻层于该金属层上，且该第一图案化光阻层暴露出该金属层的一第一金属表面；

一电铸设备，邻接于该第一图案化光阻成形设备，适于电铸形成一电铸层于该第一金属表面上，该电铸层具有一第一电铸表面、一第二电铸表面及一第三电铸表面，该第二电铸表面连接该第一电铸表面与该第三电铸表面，该第三电铸表面与该第一金属表面相接；

一第一去光阻机，邻接于该电铸设备，适于移除该第一图案化光阻层；

一第二图案化光阻成形设备，邻接于该第一去光阻机，适于形成一第二图案化光阻层于该第一电铸表面及该金属层的一第二金属表面上，其中，该第二图案化光阻层暴露出该第二电铸表面及该金属层的一第三金属表面，该第三金属表面连接该第一金属表面及该第二金属表面，且邻接于该第二电铸表面；

一蚀刻机，邻接于该第二图案化光阻成形设备，适于蚀刻该第二电铸表面，以得到一经蚀刻的第二电铸表面；

一末端处理设备，邻接于该蚀刻机，适于移除该第二图案化光阻层、该金属层及该玻璃基板，以获得该精细金属掩模，该精细金属掩模包括该第一电铸表面、该经蚀刻的第二电铸表面、该第三电铸表面以及一掩模图案，该经蚀刻的第二电铸表面连接该掩模图案，且该掩模图案具有一邻接于该第一电铸表面的第一开口部以及一邻接于该第三电铸表面的第二开口部。

2.如权利要求1所述的精细金属掩模的制造系统，其特征在于，该第一图案化光阻成形设备更包括一第一光阻涂布机及一第一微影设备，该第一光阻涂布机适于配置一第一光阻层于该金属层上；该第一微影设备邻接于该第一光阻涂布机，适于将一第一光罩的一第一掩模图案转移至该第一光阻层上，以获得该第一图案化光阻层，且该电铸设备邻接于该第一微影设备。

3.如权利要求1所述的精细金属掩模的制造系统，其特征在于，该第二图案化光阻成形设备更包括一第二光阻涂布机及一第二微影设备，该第二光阻涂布机适于配置一第二光阻层于该第一电铸表面、该第二电铸表面、该第二金属表面及该第三金属表面上；该第二微影设备邻接于该第二光阻涂布机，适于将一第二光罩的一第二掩模图案转移至该第二光阻层上，以获得该第二图案化光阻层，且该蚀刻设备邻接于该第二微影设备。

4.如权利要求1所述的精细金属掩模的制造系统，其特征在于，该第二图案化光阻层暴露出该第一电铸表面的一端部、该第二电铸表面及该金属层的该第三金属表面，且该端部连接该第二电铸表面；该蚀刻机适于蚀刻该端部及该第二电铸表面，以得到一经蚀刻的第一电铸表面及该经蚀刻的第二电铸表面；该精细金属掩模包括该经蚀刻的第一电铸表面、该经蚀刻的第二电铸表面、该第三电铸表面以及该掩模图案，该掩模图案的该第一开口部是邻接于该经蚀刻的第一电铸表面，且该第一开口部大于该第二开口部。

5.如权利要求1所述的精细金属掩模的制造系统，其特征在于，该电铸层的材料是选自于下列构成的群组：铁、钴、镍及上述至少两者的合金。