[实用新型]一种单片清洗的单晶硅片清洗装置

权利要求书

1.一种单片清洗的单晶硅片清洗装置，包括清洗槽，其特征在于，所述清洗槽内设有清洗支架，清洗支架包括底板和侧板，底板的前后两侧固连两个侧板，底板与两个侧板构成一个长条形的滑道，侧板的底部与底板固连，两个侧板和底板的中间部分均开有通孔，清洗支架的中间部分的上方设有喷水管，喷水管的底部设有三个喷水头，喷水头对准底板的中间部位；清洗支架的右侧设有上料机构，上料机构包括推杆，推杆的左端插入清洗支架的右端，推杆的底部通过滑块安装于滑轨上，滑轨的底部固定安装于底座上，推杆的右端与第二连杆的一端铰接，第二连杆的另一端与第一连杆的一端铰接，第一连杆的另一端固定连接电机的输出轴，电机通过电机座安装于底座上。

2.根据权利要求1所述的一种单片清洗的单晶硅片清洗装置，其特征在于，所述侧板和底板开有通孔部分的宽度为单晶硅片的直径的1.2倍。

3.根据权利要求1所述的一种单片清洗的单晶硅片清洗装置，其特征在于，所述侧板的内壁上覆盖缓冲层，缓冲层的材料为橡胶。

4.根据权利要求1所述的一种单片清洗的单晶硅片清洗装置，其特征在于，所述喷水管通过管道和水泵连接清洗液槽。

5.根据权利要求1所述的一种单片清洗的单晶硅片清洗装置，其特征在于，所述清洗支架的上方的喷水管的底部设有八个喷水头，侧板和底板开有通孔部分的宽度为单晶硅片的直径的3倍。