[实用新型]监测间隙大小的设备

说明书

本实用新型提供了一种监测间隙大小的设备，用于监测两块石墨板之间形成的间隙的大小，包括：位于石墨板一侧可移动的镭射发射器、位于石墨板相对的另一侧的可移动的镭射接收器以及与所述镭射发射器和镭射接收器均信号连接的路程计算设备；所述镭射发射器和所述镭射接收器平行于所述石墨板移动，所述镭射发射器发射的激光垂直于所述石墨板并且穿过所述间隙。在本实用新型提供的一种监测间隙大小的设备种，1、可以实时监测石墨板组成的间隙的状态，保证间隙对于离子束筛选能力，从而提高离子束的质量；2、让工程师实时了解间隙的实际状态，更好的安排机台的保养对于间隙的更换标准进行量化，不再是依靠工程师经验判断，减少浪费。

技术领域

本实用新型涉及半导体设备领域，尤其涉及一种监测间隙大小的设备。

背景技术

离子植入法是一种用于将改变材料导电性的离子引入工件中的标准技术。进行离子植入采用的设备称为离子植入机。离子植入机具有能提供规定能量的离子束的离子源，离子束最终被引导至工件的表面。离子植入机发射的离子束的密度从自身的中间部分到周围的密度逐渐减小，因此离子束边缘的离子需要被过滤掉。采用的过滤方法是在离子植入机的路径中利用两石墨板组成一个合适尺寸的间隙，离子束通过这个间隙进行筛选，离子束中间密度高的部分通过间隙，从而完成对于离子束的筛选工作，边缘密度较低的部分被石墨板挡掉，过滤掉边缘发散的部分后留下的中间部分的离子束较为均为，有益于工件或晶片的离子的植入。

然而由于长期的离子轰击，石墨板靠近间隙的部分可能被消耗掉，导致间隙的尺寸变大，最终导致筛选出的离子束不合格，因此，需要对石墨板进行更换或对间隙的尺寸进行调节。现有技术中，主要依靠工程师肉眼观察石墨板被消耗的程度从而判断是否需要更换，高电流离子植入机最短保养周期为双周保，在两次保养之间，无法了解石墨板消耗的真实状态。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种监测间隙大小的设备，用于监测两块石墨板之间形成的间隙的大小，并且能够获得间隙的实时状态，保证间隙筛选后的离子束的质量。

为了达到上述目的，本实用新型提供了一种监测间隙大小的设备，用于监测两块石墨板之间形成的间隙的大小，包括：位于石墨板一侧可移动的镭射发射器、位于石墨板相对的另一侧的可移动的镭射接收器以及与所述镭射发射器和镭射接收器均信号连接的路程计算设备；所述镭射发射器和所述镭射接收器平行于所述石墨板移动，所述镭射发射器发射的激光垂直于所述石墨板并且穿过所述间隙。

可选的，在所述的监测间隙大小的设备中，所述监测间隙大小的设备还包括动力设备，所述路程计算设备安装在所述动力设备上。

可选的，在所述的监测间隙大小的设备中，所述动力设备和所述路程计算设备为步进马达。

可选的，在所述的监测间隙大小的设备中，所述步进马达的数量为两个，分别与所述镭射发射器和所述镭射接收器信号连接。

可选的，在所述的监测间隙大小的设备中，所述镭射发射器发射的激光直径为0.1mm。

可选的，在所述的监测间隙大小的设备中，所述镭射接收器和所述镭射发射器移动的路径相同并且速度一致。

可选的，在所述的监测间隙大小的设备中，石墨板组成的间隙的宽度为3mm-3.5mm。

可选的，在所述的监测间隙大小的设备中，所述镭射发射器到石墨板组成的间隙的距离与所述镭射接收器到石墨板组成的间隙的距离一致。

在本实用新型提供的监测间隙大小的设备中，具有如下有益效果：1、可以实时监测石墨板组成的间隙的状态，保证间隙对于离子束筛选能力，从而提高离子束的质量；2、让工程师实时了解间隙的实际状态，更好的安排机台的保养对于间隙的更换标准进行量化，不再是依靠工程师经验判断，减少浪费。

附图说明

图1是石墨板组成的间隙正常时的结构示意图；