[实用新型]一种真空吸附调平装置

权利要求书

1.一种真空吸附调平装置，其特征在于，包括：吸附装置和调平机构，所述吸附装置设置在所述调平机构上；

所述吸附装置包括多块吸附板和真空层，所述真空层分成多个独立控制的真空区域；

多块所述吸附板拼接并镶嵌在所述真空层的上方，且所述吸附板上均匀分布多个吸附孔；

所述调平机构用于调整所述吸附板的水平度。

2.根据权利要求1所述的真空吸附调平装置，其特征在于，一块或多块所述吸附板对应一个真空区域。

3.根据权利要求1所述的真空吸附调平装置，其特征在于，所述调平机构包括支撑板和多个具有多自由度的调平支脚，

所述支撑板为平面板；

多个所述调平支脚固定在所述支撑板邻近于所述吸附装置的表面，通过手动调节多个所述调平支脚，从而调节所述吸附板的水平度。

4.根据权利要求3所述的真空吸附调平装置，其特征在于，所述调平支脚包括第一支撑件、第二支撑件和调节机构，

所述第一支撑件固定在所述支撑板上，所述调节机构设置在所述第一支撑件上，所述第二支撑件部分容纳在所述调节机构中，且所述第一支撑件与所述第二支撑件相对设置在所述调节机构的两端，所述调节机构与所述第一支撑件和所述第二支撑板均为活动连接：所述调节机构的底端可在所述第一支撑件内上下移动及旋转，顶端与所述第二支撑件多自由度活动连接；

所述吸附装置固定在所述第二支撑件上，通过调节所述第二支撑件的水平度以调节所述吸附板的水平度。

5.根据权利要求4所述的真空吸附调平装置，其特征在于，所述调节机构包括外壳、调节柱、旋转球、第一锁紧环和第二锁紧环，

所述调节柱的底端可在所述第一支撑件上沿所述调节柱轴向移动，并且所述调节柱与所述第一支撑件沿调节柱的轴向旋转连接，所述调节柱的顶端穿过所述外壳与所述旋转球固定，所述第二支撑件围绕所述旋转球多自由度活动连接，并且，所述第二支撑件与所述旋转球连接的部分包裹在所述外壳中；

所述第一锁紧环套在所述第二支撑件上，用于锁定所述第二支撑件；

所述第二锁紧环套在所述调节柱上，用于锁定所述调节柱。

6.根据权利要求5所述的真空吸附调平装置，其特征在于，所述第二支撑件包括平面块和台肩块，所述台肩块嵌套在所述外壳中，所述平面块与所述吸附装置固定连接，且所述台肩块设有圆形凹槽，所述旋转球与所述圆形凹槽内壁活动连接。

7.根据权利要求3-6任一项所述的真空吸附调平装置，其特征在于，所述调平机构包括至少3个所述调平支脚。

8.根据权利要求1所述的真空吸附调平装置，其特征在于，该装置还包括废料清理辅助结构，其包括：两块挡板和一块导料板；

两块所述挡板垂直设置在所述吸附板的两侧；

所述导料板设置在所述吸附板上，且所述导料板垂直于所述挡板与所述吸附板的交线。

9.根据权利要求1所述的真空吸附调平装置，其特征在于，该装置还包括转向机构，其包括底板、驱动机构、第一限位块和第二限位块，

所述驱动机构、第一限位块和第二限位块均固定在所述底板上，且所述第一限位块、第二限位块靠近所述驱动机构；所述驱动机构还与所述调平机构固定；

所述驱动机构用于驱动所述调平机构以及所述吸附装置旋转，以调节所述吸附装置的下料方向；

所述驱动机构交替地被所述第一限位块或者所述第二限位块阻挡旋转，所述驱动机构的每次旋转的角度与所述第一限位块和第二限位块以所述驱动机构为中心形成的夹角的角度一致。

10.根据权利要求9所述的真空吸附调平装置，其特征在于，所述转向机构还包括多个气浮轴承，所述气浮轴承固定在所述底板上，所述气浮轴承用于从所述调平机构底端吹气间接限制所述吸附板随着所述驱动机构旋转时其表面跳动过大。