[实用新型]一种真空吸附调平装置有效
申请号: | 201821405464.0 | 申请日: | 2018-08-29 |
公开(公告)号: | CN209140085U | 公开(公告)日: | 2019-07-23 |
发明(设计)人: | 郭明森;艾晓国;饶浩乾;谢伟;何云;尹建刚;高云峰 | 申请(专利权)人: | 大族激光科技产业集团股份有限公司 |
主分类号: | B23K26/38 | 分类号: | B23K26/38;B23K26/70 |
代理公司: | 深圳市世联合知识产权代理有限公司 44385 | 代理人: | 汪琳琳 |
地址: | 518000 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 吸附装置 调平机构 吸附板 本实用新型 调平装置 真空吸附 真空层 水平度 多块 抓取 激光加工设备 独立控制 通用性差 下料装置 真空区域 机械手 破真空 吸附孔 小单元 准确率 吸附 拼接 兼容 镶嵌 | ||
本实用新型实施例属于激光加工设备技术领域,涉及一种真空吸附调平装置。本实用新型提供的方案为:一种真空吸附调平装置,包括:吸附装置和调平机构,所述吸附装置设置在所述调平机构上;所述吸附装置包括多块吸附板和真空层,所述真空层分成多个独立控制的真空区域;多块所述吸附板拼接并镶嵌在所述真空层的上方,且所述吸附板上均匀分布多个吸附孔;所述调平机构用于调整所述吸附板的水平度。本实用新型所提供的吸附装置的通用性差好,不易破真空,能兼容吸附各同尺寸的小单元。并且调平机构可精确调节吸附装置与机械手的水平度,提高下料装置抓取吸附装置中的产品的准确率。
技术领域
本实用新型实施例涉及激光加工设备技术领域,具体涉及中转放料台装置领域,特别是一种真空吸附调平装置。
背景技术
OLED(Organic Light-Emitting Diode,有机发光二极管)屏幕是对大片的panel(一种主要包含PET和PI等多层结构的柔性膜)进行激光切割成的小单元。在激光切割时,激光切割panel的效率远远高于取料机械手对小单元的下料速度。因此,需要一个中转放料台装置暂时放置切割的小单元。一般地,中转放料台装置都设有吸附台,用于吸附切割的小单元。
在传统的吸附装置中,吸附盘上设有大量小孔用于释放真空装置的负压,以吸附产品。但是,传统吸附装置一般使用铝合金材料制作,由于材料本身的原因,现有的工艺技术不能对铝合金材料钻极小的孔,即现有技术的吸附板的孔径较大,使得吸附盘的孔径一般都在0.5mm以上。然而,该孔径的不能支持更换切割的小单元的尺寸,其在取料机构取料后,容易造成真空破空,使得吸附装置不能产生负压,从而失去吸附能力。
此外,与OLED屏幕一样,机械手也是一种水平的结构,以便机械手抓取小单元。因此,在下料/取料时,机械手和吸附板应当是平行设置的,因而吸附装置对吸附板的水平度要求很高。倘若吸附板与机械手不平行,那么机械手不能完全抓取小单元,就会导致取料失败,从而影响下料速率,将小单元堆积在中转台吸附装置中,进而影响OLED屏幕的切割效率。
实用新型内容
本实用新型实施例所要解决的技术问题是:现有吸附装置的通用性差,不能兼容吸附不同尺寸的小单元;以及吸附装置与机械手的水平度不一致影响下料的问题。
为了解决上述技术问题,本实用新型实施例所述的一种真空吸附调平装置,采用了如下所述的技术方案:
一种真空吸附调平装置,包括:包括:吸附装置和调平机构,所述吸附装置设置在所述调平机构上;
所述吸附装置包括多块吸附板和真空层,所述真空层分成多个独立控制的真空区域;
多块所述吸附板拼接并镶嵌在所述真空层的上方,且所述吸附板上均匀分布多个吸附孔;
所述调平机构用于调整所述吸附板的水平度。
所述真空层划分真空区域单独控制,一个真空区域被破真空,其他真空区域不受影响,以使所述真空层尽可能保护其真空环境,保持吸附能力。所述调平机构用于调整所述吸附板的水平度,以便另外设置的取料装置抓取其上的 OLED或者其他物料,从而快速下料。
进一步地,一块或多块所述吸附板对应一个真空区域。
进一步地,所述调平机构包括支撑板和多个具有多自由度的调平支脚,
所述支撑板为平面板;
多个所述调平支脚固定在所述支撑板邻近于所述吸附装置的表面,且多个所述调平支脚共同用于调节所述吸附板的水平度。
多个所述调平支脚通过其自身水平度调节以及多个所述调平支脚之间的协同调节,使得所述吸附板的水平度与所述取料装置的水平度一致。
进一步地,所述调平支脚包括第一支撑件、第二支撑件和调节机构,
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