[实用新型]一种纳米石墨溶胶制备装置有效
申请号: | 201821432532.2 | 申请日: | 2018-09-03 |
公开(公告)号: | CN209205259U | 公开(公告)日: | 2019-08-06 |
发明(设计)人: | 曹明辉 | 申请(专利权)人: | 曹明辉 |
主分类号: | B01J13/00 | 分类号: | B01J13/00 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 王莹;吴欢燕 |
地址: | 102609*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 纳米石墨溶胶 限位盖板 石墨板 开口槽 沿槽 本实用新型 制备装置 支撑 石墨 冲洗管 电解槽 底面 卡槽 支架 制备 长度方向间隔 宽度方向间隔 对角 杂质离子 制备过程 内侧壁 槽体 多片 隔开 粒径 用时 团聚 延伸 | ||
本实用新型涉及纳米石墨溶胶制备领域,公开了一种纳米石墨溶胶制备装置,其包括电解槽,冲洗管和限位盖板,电解槽包括槽体,沿槽体的宽度方向间隔设有多个石墨支架,每相邻两个石墨支架之间设有多组一一对应的支撑开口槽,每组支撑开口槽之间用于放置一石墨板,每片石墨板的其中一对对角分别支撑在一组支撑开口槽中,限位盖板呈条状,限位盖板的底面沿其长度方向间隔设有多个卡槽,限位盖板用于设于石墨板的上方,通过卡槽将多片石墨板之间一一隔开,冲洗管沿槽体的内侧壁设置,并沿槽体的底面延伸。本实用新型能够解决纳米石墨溶胶在制备过程中易团聚,制备纳米石墨溶胶用时短,杂质离子少,粒径小,浓度高,稳定性好。
技术领域
本实用新型涉及纳米石墨溶胶制备技术领域,特别是涉及一种纳米石墨溶胶制备装置。
背景技术
纳米材料的制备和应用技术,成为二十一世纪材料研究的一项新内容。大量研究表明,碳处于纳米尺度范围时,具有许多常规尺寸碳材料所不具有的特殊性能。其广泛应用于电发热材料、电池制造业、磁性记录材料、农业、航空、航天等领域,用途十分广泛,是纳米材料研究中的亮点。但是,由于碳是处于半金属状态的元素,在纳米状态时具有强烈的选择吸附性,且带有负电性,极易发生团聚,使纳米碳的制造十分困难。
现有生产纳米石墨溶胶的设备,纳米石墨溶胶会在负极板上堆积团聚,产生大量类似淤泥状的沉淀,直接影响到了溶胶浓度的提高,这种电极上的团聚堆积碳颗粒会形成很厚的势垒层,不但阻碍纳米石墨碳生成,而且团聚碳颗粒都在微米级,脱落后会在电解槽底部形成沉积,造成电极短路,并且清理十分困难,需将整套生产设备完全拆解露出箱底才能清理干净,严重影响设备的使用寿命和出产溶胶的质量。
实用新型内容
(一)要解决的技术问题
本实用新型旨在至少解决现有技术或相关技术中存在的技术问题之一。
本实用新型的目的是提供一种纳米石墨溶胶制备装置,以解决纳米石墨溶胶在制备过程中易团聚,特别是电极上的团聚,分散难的问题,得到的溶胶浓度高,稳定性、粒径均匀性好。
(二)技术方案
为了解决上述技术问题,本实用新型提供一种纳米石墨溶胶制备装置,其包括电解槽,冲洗管和限位盖板,所述电解槽包括槽体,沿所述槽体的宽度方向间隔设有多个石墨支架,每相邻两个所述石墨支架之间设有多组一一对应的支撑开口槽,每组所述支撑开口槽之间用于放置一石墨板,每片所述石墨板的其中一对对角分别支撑在一组所述支撑开口槽中,所述限位盖板呈条状,所述限位盖板的底面沿其长度方向间隔设有多个卡槽,所述限位盖板用于设于所述石墨板的上方,通过所述卡槽将多片所述石墨板之间一一隔开,所述冲洗管沿所述槽体的内侧壁设置,并弯折沿所述槽体的底面延伸。
其中,所述支撑开口槽沿所述石墨支架的长度方向成排间隔设置,所述支撑开口槽的宽度与所述石墨板的厚度相匹配,相邻两个所述支撑开口槽之间的间距限定出相邻两片所述石墨板之间的间距。
其中,所述支撑开口槽的槽底面呈从内向外向下倾斜设置,且所述槽底面的倾斜角度和与所述槽底面接触的所述石墨板的斜边倾斜角度一致。
其中,所述石墨板呈方形,所述限位盖板用于盖设在所述石墨板的顶角上,所述卡槽的横截面呈与所述石墨板的顶角相匹配的三角形;所述石墨板的底角与所述槽体的底部之间留有间距。
其中,所述石墨支架的两端通过支撑杆支撑在所述槽体中,所述支撑杆的顶端设有夹持所述石墨支架的定位槽,所述支撑杆贴设于所述槽体的宽度方向的相对两侧。
其中,所述冲洗管包括多组,多组所述冲洗管沿所述槽体的长度方向间隔设置,每组所述冲洗管包括竖直段和水平段,所述竖直段和水平段通过弯管接头连接,所述水平段沿所述槽体的底部宽度方向设置,所述水平段的管壁分布有若干出水孔,且所述出水孔水平向下倾斜;所述冲洗管用于向所述槽体中放入电解液或向所述槽体提供需要清洗的冲洗水。
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