[实用新型]一种稳定镀膜的载片装置有效
申请号: | 201821456970.2 | 申请日: | 2018-09-06 |
公开(公告)号: | CN208965031U | 公开(公告)日: | 2019-06-11 |
发明(设计)人: | 杨宝立;余仲;张勇;伍波 | 申请(专利权)人: | 深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458;C23C16/513;H01L21/673 |
代理公司: | 深圳市康弘知识产权代理有限公司 44247 | 代理人: | 尹彦;胡朝阳 |
地址: | 518000 广东省深圳市龙岗区横*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 石墨舟片 石英托架 载片装置 镀膜 本实用新型 减反射膜 石墨组件 石英炉管 硅片 垂直 加热炉管 间隔连接 中心辐射 轴线垂直 轴线设置 左右两侧 表面镀 反应炉 有效地 产能 送入 阻挡 保证 | ||
本实用新型公开了一种用于硅片的表面镀减反射膜的稳定镀膜的载片装置,其包括:石英托架,设于该石英托架中的石墨舟片组件,该石墨组件由垂直所述石英托架轴线的石墨舟片间隔连接而成。本实用新型使得石墨组件的石墨舟片垂直于石英托架的轴线设置。当该载片装置送入石英炉管时,石墨舟片与石英炉管的轴线垂直,有效地避免了左右两侧石墨舟片对加热炉管热量向中心辐射的阻挡,从而保证处于石墨舟片之间的硅片减反射膜镀膜均匀和工艺的稳定性,以提升PECVD反应炉的产能。
技术领域
本实用新型涉及光伏行业硅片加工领域,尤其涉及一种将太阳能硅片送入石英炉管进行表面镀减反射膜的载片装置。
背景技术
在光伏行业,PECVD用于对单晶硅片、多晶硅片的表面镀减反射膜。随着光伏行业的不断发展,太阳能电池片生产已经进入精细化管理,客户对制造太阳能电池片设备的产能、减反射膜均匀性、制作工艺的稳定性要求越来越高。石墨舟是硅片的载具,其结构对设备的产能及工艺的稳定性起到至关重要的作用。如图2所示为原有石墨舟载硅片的结构示意图,图1所示为载有硅片的石墨舟放置于石英炉管的中的示意图。当石墨舟01送入与石英炉管04中时,石墨舟中的石墨舟片02和硅片03平面正好与石英炉管04截面的纵轴平行,而加热炉管的加热是由炉管外圆径向向中心辐射的,由图2可见,石墨舟01左右两侧的石墨舟片02阻挡了加热炉管的热量向中心辐射。随着产能的增加,装载在石墨舟两侧的硅片03与中心、炉口及炉尾位置的硅片03减反射膜镀膜均匀性变差,这也就限制了制作减反射膜的工艺窗口,最后导致工艺稳定性差。传统的PECVD反应炉石墨舟片排列方式限制了设备未来继续提升产能的空间。
因此,如何克服现有加热石英炉管的热量辐射受阻,以致石墨舟中的硅片减反射膜镀膜不均匀的缺陷是业界亟待解决的问题。
实用新型内容
本实用新型为了解决现有加热石英炉管的热量辐射受阻,以致石墨舟中的硅片减反射膜镀膜不均匀的技术问题,提出这一种不会阻挡加热炉管热量辐射的石墨舟片的排列方式,从而保证减反射膜镀膜均匀和工艺稳定的载片装置。
本实用新型提出的一种稳定镀膜的载片装置,其包括:石英托架,设于该石英托架中的石墨舟片组件,该石墨组件由垂直所述石英托架轴线的石墨舟片间隔连接而成。
优选的,所述的石英托架包括两侧板、连接该两侧板上部的两根上槽棒,连接该两侧板下部的至少一根下槽棒,所述的上槽棒分别设于所述两侧板的横向两侧,所述侧板的下侧边设有对应卡入所述石墨舟片组件的卡槽。
其中,所述下槽棒的上表面设有支撑所述石墨舟片底边的下槽棒齿槽。
而所述上槽棒的内表面也设有支撑所述石墨舟片两侧边的上槽棒齿槽。
所述侧板的外侧面还设有把手。
优选的,所述的石墨舟片组件由正、负极石墨舟片间隔排列,并通过陶瓷杆将正极石墨舟片、负极石墨舟片分别电性连接成具有间隙的排列;通过将正极石墨舟片、负极石墨舟片分别电性连接的陶瓷杆引出正极舟脚、负极舟脚,所述石英托架侧板的下侧边的卡槽对应卡入所述的正极舟脚、负极舟脚。
较优的,所述石墨舟片组件上部两侧各有一根陶瓷杆和石墨舟片组件下部设有两根陶瓷杆将所述的正极石墨舟片、负极石墨舟片分别间隔串接起来。
较优的,所述的石墨舟片组件下部的一侧的两根陶瓷杆端引出所述的正极舟脚,其连通套在上方两根陶瓷杆上的导电套将所述的正极石墨舟片电性连接起来;所述的石墨舟片组件下部的另一侧的两根陶瓷杆端引出所述的负极舟脚,其连通套在下方两根陶瓷杆上的导电套将所述的负极石墨舟片电性连接起来。
较优的,所述的正、负极舟脚为固定连接于所述下部陶瓷杆端上的石墨U形块,所述石英托架侧板的下侧边的卡槽对应卡入所述U形块凹下的沟槽中。
较优的,所述正、负极石墨舟片的表面设有多个硅片卡点。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的