[实用新型]具有对称路径的存储器字元线驱动器结构有效

专利信息
申请号: 201821503911.6 申请日: 2018-09-13
公开(公告)号: CN208796672U 公开(公告)日: 2019-04-26
发明(设计)人: 不公告发明人 申请(专利权)人: 长鑫存储技术有限公司
主分类号: G11C11/408 分类号: G11C11/408
代理公司: 北京润平知识产权代理有限公司 11283 代理人: 肖冰滨;刘兵
地址: 230601 安徽省合肥市*** 国省代码: 安徽;34
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 字元线 驱动器结构 存储器 晶体管 电流路径 对称路径 连接距离 两层 相等 驱动器 晶体管组合电路 本实用新型 第一层 半导体 对称
【说明书】:

实用新型涉及半导体生产领域,公开了一种具有对称路径的存储器字元线驱动器结构,该驱动器结构通过设置两层或者两层以上的晶体管组合电路,并将一晶体管单独置于第一层,并使该晶体管的与两侧的字元线的连接距离为相等,而实现该晶体管与两侧字元线的连接距离相等,从而使得电流路径驱动器中的电流路径对称,有利于提高存储器的性能。

技术领域

本实用新型涉及半导体生产领域,具体地涉及具有对称路径的存储器字元线驱动器结构。

背景技术

现有的存储器的驱动器中的晶体管与两侧的字元线的连接距离不一致,因而导致驱动器中的电流路径呈现出非对称性,使驱动器在打开两侧的字元线的过程中出现时差,对存储器的性能造成负面的影响。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了克服现有技术存在的存储器中的驱动器中的电流路径呈现出非对称性的问题,提供一种具有对称路径的存储器字元线驱动器结构,该驱动器结构通过设置两层或者两层以上的晶体管组合电路,并将一晶体管单独置于第一层,从而实现该晶体管与两侧字元线的连接距离相等,从而使得电流路径驱动器中的电流路径对称,有利于提高存储器的性能。

为了实现上述目的,本实用新型的实施方式的一方面提供了一种具有对称路径的存储器字元线驱动器结构,其特征在于,所述驱动器结构包括:

第一衬底,所述第一衬底的上表面包括周边区域,所述周边区域中设置第一晶体管,用于驱动连接位于所述第一衬底的阵列区域的埋入式字元线,所述第一晶体管的第一栅极、第一漏极和第一源极设置于所述第一衬底上;

第一电极隔离层,形成于所述第一衬底上,所述第一电极隔离层覆盖所述第一晶体管,所述第一栅极、所述第一漏极和所述第一源极位于所述第一电极隔离层中;

第一纵向连接件,位于所述第一电极隔离层中,所述第一纵向连接件的一端与所述埋入式字元线电连接;

第一金属层,设置于所述第一电极隔离层上,所述第一金属层连接所述第一漏极并经由所述第一纵向连接件电连接至所述埋入式字元线;

第一覆盖层,形成于所述第一电极隔离层上,所述第一覆盖层覆盖所述第一金属层和所述第一电极隔离层的表面;

第二衬底,位于所述第一覆盖层上,所述第二衬底包括迭层式第一有源岛块、迭层式第二有源岛块及隔离所述第一有源岛块和所述第二有源岛块的迭层式隔离结构,在所述第一有源岛块上设置有第二晶体管,在所述第二有源岛块上设置有第三晶体管,所述第二晶体管包括设置于所述第一有源岛块上的第二栅极、第二漏极和第二源极,所述第三晶体管包括设置于所述第二有源岛块上的第三栅极、第三漏极和第三源极;

第二电极隔离层,形成于所述第二衬底上,所述第二栅极、所述第二漏极、所述第二源极、所述第三栅极、所述第三漏极和所述第三源极位于所述第二电极隔离层中;

第二金属层,设置于所述第二电极隔离层上,所述第二金属层连接所述第二漏极和所述第三漏极;

第二覆盖层,形成于所述第二电极隔离层上,所述第二覆盖层覆盖所述第二金属层和所述第二电极隔离层的表面;

其中,所述第二晶体管和所述第三晶体管依照所述第一晶体管的一中间线的隔层迭层式对称配置并且具有相反于所述第一晶体管的晶体管型态;并且,所述第二金属层连接所述第二漏极和所述第三漏极并经由至少贯穿所述隔离结构和所述第二电极隔离层的第二纵向连接件电连接至所述第一纵向连接件。

优选地,所述第一晶体管的所述第一漏极与在所述第一晶体管两侧的至少两个所述埋入式字元线的连接距离为相等。

优选地,所述第一金属层还包括分别连接所述第一栅极、所述第一源极的第一电极接触。

优选地,所述隔离结构投影在所述第一电极隔离层上的区域包括所述第一栅极和所述第一源极。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于长鑫存储技术有限公司,未经长鑫存储技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201821503911.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top