[实用新型]锅盖组件以及烹饪器具有效

专利信息
申请号: 201821513877.0 申请日: 2018-09-14
公开(公告)号: CN209172033U 公开(公告)日: 2019-07-30
发明(设计)人: 梁志佳;刘化勇;黄韦铭;罗飞龙;邢胜华;羊小亮;吴慧民;瞿月红 申请(专利权)人: 佛山市顺德区美的电热电器制造有限公司
主分类号: A47J36/06 分类号: A47J36/06;A47J27/00
代理公司: 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 44287 代理人: 胡海国
地址: 528311 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 线圈绕组 锅盖主体 锅盖组件 加密区 盖板 本实用新型 烹饪器具 多匝线圈 邻近区域 不均匀 密度比 内外圈 磁场 加密 残留 水产
【权利要求书】:

1.一种锅盖组件,其特征在于,包括:

锅盖主体,包括处在下侧的盖板;以及,

线圈绕组,设于所述锅盖主体内且位于所述盖板的上方,所述线圈绕组包括呈内外圈设置的多匝线圈,且具有靠近其外缘的加密区,所述加密区上的线圈分布密度比处在所述加密区内侧邻近区域的线圈分布密度大。

2.如权利要求1所述的锅盖组件,其特征在于,所述多匝线圈通过减小间距设置,以实现线圈分布密度的加大。

3.如权利要求1所述的锅盖组件,其特征在于,所述线圈绕组于所述盖板的投影区域自所述盖板的中部分布至外围,所述线圈绕组于所述盖板上的投影面积与所述盖板的面积的比值大于50%。

4.如权利要求1所述的锅盖组件,其特征在于,所述盖板上开设有蒸汽出口,所述线圈绕组邻近所述蒸汽出口的多匝所述线圈为多匝邻近线圈,且所述多匝邻近线圈的线圈分布密度比处在所述多匝邻近线圈外侧邻近区域的线圈分布密度大。

5.如权利要求4所述的锅盖组件,其特征在于,所述多匝邻近线圈在靠近所述蒸汽出口的方向上线圈分布密度呈逐渐加大设置。

6.如权利要求4所述的锅盖组件,其特征在于,所述线圈绕组呈环绕所述蒸汽出口布置;或者,

所述线圈绕组布置于所述蒸汽出口在径向上的一侧。

7.如权利要求6所述的锅盖组件,其特征在于,所述多匝邻近线圈局部朝内凹陷,以在所述多匝邻近线圈的外侧形成有凹陷区;

所述蒸汽出口位于所述凹陷区。

8.如权利要求1所述的锅盖组件,其特征在于,所述盖板的局部向下凹陷形成有凹坑,所述凹坑开设有回流孔,所述凹坑至少部分与所述线圈绕组呈相对设置。

9.如权利要求8所述的锅盖组件,其特征在于,所述凹坑的底壁局部上凸形成有凸起,所述回流孔开设于所述凸起的上端;和/或,

所述线圈绕组的邻近所述凹坑的多匝线圈的线圈分布密度比其邻近区域的线圈分布密度大。

10.一种烹饪器具,其特征在于,包括为如权利要求1至9任意一项所述的锅盖组件。

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