[实用新型]锅盖组件以及烹饪器具

说明书

本实用新型公开一种锅盖组件以及烹饪器具，其中，所述锅盖组件包括锅盖主体以及线圈绕组，所述锅盖主体包括处在下侧的盖板，所述线圈绕组设于所述锅盖主体内且位于所述盖板的上方，所述线圈绕组包括呈内外圈设置的多匝线圈，且具有靠近其外缘的加密区，所述加密区上的线圈分布密度比处在所述加密区内侧邻近区域的线圈分布密度大。本实用新型的技术方案中，通过在靠近所述线圈绕组的外缘设置所述加密区，这样所述线圈绕组工作时会产生强度较为均匀的磁场，从而避免了所述盖板温度不均匀，会有残留水产生的问题。

技术领域

本实用新型涉及烹饪器具技术领域，特别涉及一种锅盖组件以及烹饪器具。

背景技术

烹饪器具包括烹饪座(通常包括煲体和设于煲体的内锅)、以及盖合所述烹饪座的锅盖组件，锅盖组件在盖合后与烹饪座围合形成烹饪腔，现有技术中对烹饪腔的加热方式为从下方加热，如此，烹饪腔的蒸汽遇到盖板后遇冷会形成冷凝水，打开锅盖时，会有较多的水流到烹饪器具煲体和锅盖上，对用户形成不好的体验，并且对烹饪腔内的食材有影响，例如，以电饭煲为例，在电饭煲的保温阶段中，冷凝水会滴到米饭上，导致“滴白”现象，容易使米饭变质。

为改善冷凝水的问题，本设计人员有考虑在锅盖组件内设置IH加热装置，通过IH加热装置对盖板进行加热，由于现有IH加热装置的线圈绕组布线方式通常为等间距的多匝绕设布置，这样易导致盖板温度不均匀，会有残留水产生的问题。

实用新型内容

本实用新型的主要目的是提供一种锅盖组件以及烹饪器具，旨在解决现有锅盖组件的线圈绕组的布线方式，易导致盖板温度不均匀，会有残留水产生的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供一种锅盖组件，包括：

锅盖主体，包括处在下侧的盖板；以及，

线圈绕组，设于所述锅盖主体内且位于所述盖板的上方，所述线圈绕组包括呈内外圈设置的多匝线圈，且具有靠近其外缘的加密区，所述加密区上的线圈分布密度比处在所述加密区内侧邻近区域的线圈分布密度大。

优选地，所述多匝线圈通过减小间距设置，以实现线圈分布密度的加大。

优选地，所述线圈绕组于所述盖板的投影区域自所述盖板的中部分布至外围，所述线圈绕组于所述盖板上的投影面积与所述盖板的面积的比值大于50％。

优选地，所述盖板上开设有蒸汽出口，所述线圈绕组邻近所述蒸汽出口的多匝所述线圈为多匝邻近线圈，且所述多匝邻近线圈的的线圈分布密度比处在所述多匝邻近线圈外侧邻近区域的线圈分布密度大。

优选地，所述多匝邻近线圈在靠近所述蒸汽出口的方向上线圈分布密度呈逐渐加大设置。

优选地，所述线圈绕组呈环绕所述蒸汽出口布置；或者，

所述线圈绕组布置于所述蒸汽出口在径向上的一侧。

优选地，所述多匝邻近线圈局部朝内凹陷，以在所述多匝邻近线圈的外侧形成有凹陷区；

所述蒸汽出口位于所述凹陷区。

优选地，所述盖板的局部向下凹陷形成有凹坑，所述凹坑开设有回流孔，所述凹坑至少部分与所述线圈绕组呈相对设置。

优选地，所述凹坑的底壁局部上凸形成有凸起，所述回流孔开设于所述凸起的上端；和/或，

所述线圈绕组的邻近所述凹坑的多匝线圈的线圈分布密度比其邻近区域的线圈分布密度大。

本实用新型还提供一种烹饪器具，包括锅盖组件，所述锅盖组件包括：

锅盖主体，包括处在下侧的盖板；以及，