[实用新型]一种PECVD纳米防水处理设备

权利要求书

1.一种PECVD纳米防水处理设备，包括壳体，真空泵和加药装置，其特征在于，壳体中设置有真空舱，该真空舱与真空泵相连；真空舱中设置有工件支架，该工件支架包括底板、设置在底板上方的顶板，底板和顶板之间可转动地连接有若干根竖杆，每根竖杆上至少设置有一个支撑盘；在水平面的投影中，竖杆呈环形分布；所述真空舱中设置有一根喷管，该喷管与加药装置连接；所述壳体中还设置有用于驱动底板转动以及驱动每根竖杆转动的驱动装置。

2.根据权利要求1所述的纳米防水处理设备，其特征在于，在水平面上的投影中，竖杆呈内环和外环两个环形分布。

3.根据权利要求2所述的纳米防水处理设备，其特征在于，每根竖杆在竖直方向上分别设置有两个支撑盘。

4.根据权利要求2所述的纳米防水处理设备，其特征在于，所述驱动装置包括驱动电机，以及同轴地设置的内齿圈和外齿圈；底板的底部设置有转轴，该转轴与驱动电机的主轴连接；位于内环的竖杆的底端分别穿过底板并套有一个第一齿轮，位于外环的竖杆的底端分别穿过底板并套有一个第二齿轮；每个第一齿轮分别于内齿圈啮合，每根第二齿轮分别与外齿圈啮合。

5.根据权利要求4所述的纳米防水处理设备，其特征在于，所述内齿圈位于外齿圈的下方。