[实用新型]一种PECVD纳米防水处理设备

说明书

本实用新型公开了一种PECVD纳米防水处理设备，包括壳体，真空泵和加药装置，壳体中设置有真空舱，真空舱中设置有工件支架，该工件支架包括底板、设置在底板上方的顶板，底板和顶板之间可转动地连接有若干根竖杆，每根竖杆上至少设置有一个支撑盘；在水平面的投影中，竖杆呈环形分布；所述真空舱中设置有一根喷管，该喷管与加药装置连接；所述壳体中还设置有用于驱动底板转动以及驱动每根竖杆转动的驱动装置。本实用新型提供的PECVD纳米防水处理设备可以实现工作过程中放在支撑盘上的工件同时做公转和自转，提高了工件上成膜的均匀性。

技术领域

本实用新型涉及防水处理设备技术领域，特别涉及一种PECVD纳米防水处理设备。

背景技术

PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)是指等离子体增强化学的气相沉积法，该方法的成膜质量较好，可以用于对工件形成薄膜以达到防水的目的。目前常用的PECVD设备是平行板结构，虽然具有结构简单等优点，但是工作过程中等离子体难以在工件的各个方向上均匀地成膜。因此有必要提出一种PECVD纳米防水处理设备，进一步提高工件表面的成膜质量。

可见，现有技术还有待改进和提高。

实用新型内容

鉴于上述现有技术的不足之处，本实用新型的目的在于提供一种PECVD纳米防水处理设备，旨在解决现有技术中PECVD设备中离子体难以在工件的各个方向上均匀地成膜的技术问题。

为了达到上述目的，本实用新型采取了以下技术方案：

一种PECVD纳米防水处理设备，包括壳体，真空泵和加药装置，壳体中设置有真空舱，该真空舱与真空泵相连；真空舱中设置有工件支架，该工件支架包括底板、设置在底板上方的顶板，底板和顶板之间可转动地连接有若干根竖杆，每根竖杆上至少设置有一个支撑盘；在水平面的投影中，竖杆呈环形分布；所述真空舱中设置有一根喷管，该喷管与加药装置连接；所述壳体中还设置有用于驱动底板转动以及驱动每根竖杆转动的驱动装置。

所述的纳米防水处理设备中，在水平面上的投影中，竖杆呈内环和外环两个环形分布。

所述的纳米防水处理设备中，每根竖杆在竖直方向上分别设置有两个支撑盘。

所述的纳米防水处理设备中，所述驱动装置包括驱动电机，以及同轴地设置的内齿圈和外齿圈；底板的底部设置有转轴，该转轴与驱动电机的主轴连接；位于内环的竖杆的底端分别穿过底板并套有一个第一齿轮，位于外环的竖杆的底端分别穿过底板并套有一个第二齿轮；每个第一齿轮分别于内齿圈啮合，每根第二齿轮分别与外齿圈啮合。

所述的纳米防水处理设备中，所述内齿圈位于外齿圈的下方。

有益效果：本实用新型提供了一种PECVD纳米防水处理设备，相比现有技术，本实用新型通过设置工件支架，工件支架上设置若干根竖杆，竖杆上设置支撑盘；由驱动装置驱动底板转动以及驱动每根竖杆转动，实现放置在支撑盘上的各个工件在真空舱内同时做公转和自转两个运动，使得工件与真空舱中的等离子体均匀接触，在工件上形成的薄膜的均匀性得到提高。

附图说明

图1为本实用新型提供的PECVD纳米防水处理设备的主视示意图。

图2为本实用新型提供的PECVD纳米防水处理设备中，挂件支架和驱动装置的结构示意图。

图3为本实用新型提供的PECVD纳米防水处理设备中，支撑盘的分布示意图。

图4为图2中的S区域的局部放大图。

具体实施方式