[实用新型]光刻胶喷涂装置

说明书

本实用新型涉及半导体制备领域，针对光刻胶结晶的问题，提供了一种光刻胶喷涂装置，该技术方案如下：包括基座、工作台、主支架，主支架上设有喷头，基座上设有储液瓶，喷头包括与储液瓶连通的储液管，储液管一端朝向工作台，储液管朝向工作台的端部连接有覆盖储液管管口的挡板，挡板上开有若干喷液孔，挡板上滑动连接有隔断板，隔断板上开有若干过渡孔，过渡孔与喷液孔一一对应，储液管设有驱动隔断板滑动以使过渡孔与喷液孔正对或相错的驱动组件。喷涂完毕后，通过隔断板与挡板配合封闭储液管，使得储液管内的光刻胶的溶剂难以挥发，进而减少光刻胶结晶的情况，减少光刻胶结晶导致无法使用的情况，减少浪费。

技术领域

本实用新型涉及半导体制备领域，尤其是涉及一种光刻胶喷涂装置。

背景技术

在半导体制作中，需要通过在半导体元件上喷涂光刻胶以为下一步刻蚀做好工艺准备。

光刻胶需要通过溶剂溶解以形成粘稠液态，方能喷涂，而溶剂易于挥发，使得光刻胶暴露在空气中时，容易因溶剂挥发导致结晶，进而使得喷头在暂停作业一段时间后可能因为喷头端部残留的光刻胶结晶导致粘性消失而滴落，甚至使得喷头内光刻胶全部结晶而滴落，导致浪费，因此，还有改善空间。

实用新型内容

针对现有技术存在的不足，本实用新型的目的在于提供一种光刻胶喷涂装置，具有减少浪费的优点。

为实现上述目的，本实用新型提供了如下技术方案：

一种光刻胶喷涂装置，包括基座，所述基座上设有工作台，还包括沿水平方向滑动的主支架，所述主支架上沿垂直于主支架滑动方向的水平方向滑动连接有喷头，所述基座上设有驱动主支架滑动的主驱动件以及驱动喷头滑动的副驱动件，所述基座上设有储液瓶，所述喷头包括与储液瓶连通的储液管，所述储液管一端朝向工作台，所述储液管朝向工作台的端部连接有覆盖储液管管口的挡板，所述挡板上开有若干喷液孔，所述挡板上滑动连接有隔断板，所述隔断板上开有若干过渡孔，所述过渡孔与喷液孔一一对应，所述储液管设有驱动隔断板滑动以使过渡孔与喷液孔正对或相错的驱动组件，所述储液瓶设有投料口以及封闭投料口的瓶盖，所述基座还设有对储液瓶加压的抽气装置。

通过采用上述技术方案，通过抽气装置施压，使得储液管内处于高压状态，当通过驱动组件驱动隔断板滑动至过渡孔与喷液孔正对时，储液管内压力通过喷液孔卸出进而使得光刻胶从喷液孔喷出，以进行喷涂作业，当前半导体元件喷涂完毕后，通过驱动组件驱动隔断板滑动至过渡孔与喷液孔相错以限制光刻胶继续喷出，同时通过隔断板与挡板配合封闭储液管，使得储液管内的光刻胶的溶剂难以挥发，进而减少光刻胶结晶的情况，减少光刻胶结晶导致无法使用的情况，减少浪费；通过主支架滑动以及喷头沿主支架滑动，使得喷头可对工作台上多个位置进行喷涂作业，使得工作台上可一次性放置多个半导体元件，提高喷涂效率；通过若干个喷液孔进行喷液，由于光刻胶稠度较大，避免光刻胶从单个喷液孔喷出导致堆积且因流动困难而难以分散的情况，使得喷涂均匀性大为提高。

本实用新型进一步设置为：所述驱动组件包括分别固定于隔断板沿滑动方向两端的铁片以及固定于储液管上的开电磁铁以及闭电磁铁，所述开电磁铁以及闭电磁铁分别位于隔断板沿滑动方向的两端。

通过采用上述技术方案，通过启动开电磁铁以吸附与开电磁铁相对的铁片，驱动隔断板滑动至过渡孔与喷液孔正对，通过启动闭电磁铁以吸附与闭电磁铁相对的铁片，驱动隔断板滑动至过渡孔与喷液孔相错，操作方便、易于控制；同时作用力较大，保证在粘稠的光刻胶中隔断板的滑动过程稳定。

本实用新型进一步设置为：所述开电磁铁以及闭电磁铁固定于储液管外壁上。

通过采用上述技术方案，通过电磁铁固定于储液管外壁上，减少电磁铁被光刻胶污染导致磁力下降的情况，提高稳定性。