[实用新型]红外探测器用带通滤光片有效

专利信息
申请号: 201821592676.4 申请日: 2018-09-28
公开(公告)号: CN208737033U 公开(公告)日: 2019-04-12
发明(设计)人: 单森林 申请(专利权)人: 森霸传感科技股份有限公司
主分类号: G02B5/20 分类号: G02B5/20;G02B1/10
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 473300*** 国省代码: 河南;41
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 红外探测器 膜系 后表面 前表面 透过率 红外带通滤光片 截止 带通滤光片 硫化锌材料 传统滤光 工作波段 信噪比 锗材料 传感器 波段 基底 叠加 配合
【说明书】:

一种红外探测器用8—14μm红外带通滤光片,包括前表面膜系、基底、后表面膜系(如图1),前表面及后表面膜系均由锗材料和硫化锌材料相互叠加而成。其在工作波段8—14μm内具有高的透过率,而在其他波段截止。与传统滤光片相比具有透过率高,截止深度高的特点,配合红外探测器使用,有益的提高了传感器的信噪比及其使用效果。

技术领域

本实用新型涉及一种红外带通滤光片,尤其是8—14微米红外带通滤光片。

背景技术

红外探测器是一种利用热敏材料对外界热信号自发极化产生微弱电压信号原理而制成的探测器,由于不同物体甚至同一物体不同部位热辐射能力和对于红外线的反射强弱不同,利用物体与背景环境的热辐射差异以及物体本身各部分热辐射的差异,红外探测器可以输出呈现物体各部分的辐射,从而显示出景物的特征。

红外带通滤光片作为红外探测器的重要组成部件,对于探测器对于红外能量的探测具有着至关重要的作用,其对于特定波段8—14微米的光谱范围具有着高透过率,而其它波段的光谱范围有着深度截止的作用。而目前市面上原有的红外带通滤光片由其膜层过厚,不利于生产效率提高,且透过率及截止深度低,造成传感器误报、灵敏度低的现象,因此设计一款有益生产效率及高信噪比的滤光片对于红外探测器行业尤为重要。

发明内容

本实用新型的目的在于提供一种高信噪比、高生产效率的红外探测器用8—14微米红外带通滤光片。采用双电阻蒸镀法代替传统的电子枪及电阻混用蒸镀法,可以更加均衡的控制镀膜材料的蒸发速度,有效控制膜层的厚度及均匀性,有效减少了膜层镀制的层数,达到更加高效的透过及截止效果。

本发明是通过以下方式来实现的:

一种红外探测器用8—14微米红外带通滤光片,包括基底,前表面膜系及后表面膜系,其中基底为硅片,前表面膜系是锗Ge材料和硫化锌ZnS材料相互叠加蒸镀而成的48层膜系,后表面膜系是锗Ge材料和硫化锌ZnS材料相互叠加蒸镀而成的13层膜系。

优选的,一种红外探测器用8—14微米红外带通滤光片,其特征在于:其前表面膜系第一层至第48层构成材料及厚度如下:173纳米Ge,272纳米ZnS,179纳米Ge,254纳米ZnS,166纳米Ge,321纳米ZnS,146纳米Ge,335纳米ZnS,126纳米Ge,304纳米ZnS,182纳米Ge,281纳米ZnS,158纳米Ge,345纳米ZnS,291纳米Ge,259纳米ZnS,242纳米Ge,285纳米ZnS,315纳米Ge,143纳米ZnS,212纳米Ge,357纳米ZnS,271纳米Ge,380纳米ZnS,220纳米Ge,602纳米ZnS,225纳米Ge,531纳米ZnS,181纳米Ge,548纳米ZnS,290纳米Ge,680纳米ZnS,218纳米Ge,521纳米ZnS,168纳米Ge,656纳米ZnS,347纳米Ge,683纳米ZnS,372纳米Ge,762纳米ZnS,371纳米Ge,710纳米ZnS,388纳米Ge,765纳米ZnS,362纳米Ge,639纳米ZnS,375纳米Ge,1459纳米ZnS。

优选的,一种红外探测器用8—14微米红外带通滤光片,其特征在于:其后表面膜系第一层至第13层构成材料及厚度如下:216纳米Ge,198纳米ZnS,2282纳米Ge,1152纳米ZnS,2124纳米Ge,1057纳米ZnS,2033纳米Ge,1079纳米ZnS,1977纳米Ge,1094纳米ZnS,2078纳米Ge,973纳米ZnS,982纳米Ge。

本实用新型涉及材料具有相应厚度,并且允许其在一定公差范围内变化,其公差范围所涉及厚度变化的范围应在本实用新型的保护范围内,厚度公差在±20纳米内。

本发明的原理:通过对于滤光片的膜层及镀膜方法的设计,有效减少了膜层镀制的层数及厚度,解决了滤光片在8—14微米光谱范围内透过率低,及其它波段的低截止。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于森霸传感科技股份有限公司,未经森霸传感科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201821592676.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top