[实用新型]石墨舟组件有效
申请号: | 201821619886.8 | 申请日: | 2018-09-30 |
公开(公告)号: | CN209024642U | 公开(公告)日: | 2019-06-25 |
发明(设计)人: | 邓伟;张建峰;王森;朱元 | 申请(专利权)人: | 盐城阿特斯协鑫阳光电力科技有限公司;苏州阿特斯阳光电力科技有限公司;阿特斯阳光电力集团有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458;C23C16/513 |
代理公司: | 苏州威世朋知识产权代理事务所(普通合伙) 32235 | 代理人: | 杨林洁 |
地址: | 224400 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 石墨舟 石墨舟片 硅片 支撑座 转动 被驱动机构 本实用新型 方向间隔 方向驱动 倾斜设置 驱动机构 水平设置 自由落体 掉片 支架 装载 下放 驱动 概率 支撑 | ||
本实用新型提供了一种石墨舟组件,包括用于装载硅片的石墨舟及用于支撑转动石墨舟的支撑座,所述石墨舟内具有沿第一方向间隔设置的若干石墨舟片,所述支撑座具有水平设置的支架及用于在第一方向驱动石墨舟转动的驱动机构,所述石墨舟片被驱动机构驱动而相较于水平面倾斜设置,使得硅片向下放入时可抵接到石墨舟片并沿石墨舟片表面向下滑入石墨舟内。如此设置,利用硅片自由落体的形式,降低掉片概率。
技术领域
本实用新型涉及光伏技术领域,尤其涉及一种石墨舟组件。
背景技术
由于太阳光照射到太阳能电池的硅片上,其中一部分太阳光会被反射,即使对将硅表面设计成绒面,虽然入射光会产生多次反射可以增加光的吸收率,但是,还是会有一部分的太阳光会被反射,为了减少太阳光的反射损失,通常所采取的办法是在太阳能电池的硅片表面覆盖一层减反射膜,这层薄膜可以减少太阳光的反射率,增加光电转换效率,在晶体硅表面淀积减反射膜技术中,氮化硅膜具有高绝缘性、化学稳定性好、致密性好、硬度高等特点,同时具有良好的掩蔽金属和水离子沉积的能力,从而被广泛采用。在晶体硅太阳能电池制造过程中,制备氮化硅膜通常采用等离子体增强化学气相沉积法,简称为PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition),PECVD是利用强电场使所需的气体源分子电离产生等离子体,等离子体中含有很多活性很高的化学基团,这些基团经过经一系列化学和等离子体反应,在硅片表面形成固态薄膜。石墨舟是给太阳能电池片中的硅片镀膜的载体,其结构和大小直接影响硅片的转换效率和生产效率。如于2015年1月28日公开的中国实用新型CN204130510U公开的一种用于双模镀膜的石墨舟,包括多片石墨舟片,所述石墨舟片设置有镂空镂空硅片位;所述镂空镂空硅片位边缘设置有硅片卡件,通过镂空镂空硅片位边缘设置的硅片卡件将待镀膜的硅片卡在镂空硅片位上,从而在镀膜时实现硅片的双面镀膜。但是,传统形式中石墨舟的夹持形式在平面的角度上,以机械手将产品运动至石墨舟卡扣上方,以自由落体的形式放入硅片,这样容易因为石墨舟固定不平整导致一定程度的掉片。
因此,有必要提供一种改进的石墨舟组件以解决上述问题。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种可有效减少掉片的石墨舟组件。
为实现上述实用新型目的,本实用新型提供了一种石墨舟组件,包括用于装载硅片的石墨舟及用于支撑转动石墨舟的支撑座,所述石墨舟内具有沿第一方向间隔设置的若干石墨舟片,所述支撑座具有水平设置的支架及用于在第一方向驱动石墨舟转动的驱动机构,所述石墨舟片被驱动机构驱动而相较于水平面倾斜设置,使得硅片向下放入时可抵接到石墨舟片并沿石墨舟片表面向下滑入石墨舟内。
作为本实用新型的进一步改进,所述石墨舟具有底部及相对于底部设置用于插设硅片的开口,所述开口朝向与石墨舟片的倾斜方向一致。
作为本实用新型的进一步改进,所述石墨舟具有设置在石墨舟片上用于定位硅片的镂空硅片位,使得硅片沿着石墨舟片滑落而定位在镂空硅片位上。
作为本实用新型的进一步改进,所述镂空硅片位的边缘设置有用以将硅片固定在石墨舟片上的卡扣部。
作为本实用新型的进一步改进,所述石墨舟具有分别位于两端缘的第一端部和第二端部,倾斜设置时具有第一端部低于第二端部的第一位置和第一端部高于第二端部的第二位置,所述石墨舟片具有位于左侧的第一表面和位于右侧的第二表面,所述第一表面和第二表面均设置有所述镂空硅片位。
作为本实用新型的进一步改进,所述石墨舟位于第一位置时,所述石墨舟片的第二表面向上。
作为本实用新型的进一步改进,所述石墨舟位于第二位置时,所述石墨舟片的第一表面向上。
作为本实用新型的进一步改进,分别位于石墨舟片第一表面和第二表面上的所述镂空硅片位在上下方向上不重叠。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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