[实用新型]用于原子层沉积装置的双层门体组件

说明书

本实用新型公开了一种用于原子层沉积装置的双层门体组件，包括第一门板和第二门板，第一门板包括内侧面和外侧面，第二门板位于内侧面一侧且和第一门板间隔形成安装空间，第二门板在内侧面所在平面上的正投影位于内侧面上。位于安装空间内的内侧面上设置有加热板。连接杆活动穿设第一门板连接第二门板，外侧面上设置有导杆，调节板滑动设置在导杆上，连接杆连接调节板。调节板和外侧面之间设置有驱动气缸，驱动气缸连接调节板。本实用新型实施方式中，驱动气缸带动调节板运动，进而带动第二门板相对第一门板运动，在双层门体组件和大小腔室结构配合的时候，第二门板能和小腔室配合更紧密，提高小腔室内的密封性。

技术领域

本实用新型涉及原子层沉积领域，尤其涉及一种用于原子层沉积装置的双层门体组件。

背景技术

在相关技术中，原子层沉积装置一般使用单层门体结构，将加热结构直接放置在硅片所在的腔室内加热。这种结构可能会导致腔室内的杂质在高温环境中氧化，附着在硅片表面，影响硅片的质量。

实用新型内容

本实用新型实施方式提供的一种用于原子层沉积装置的双层门体组件，包括第一门板和第二门板，所述第一门板包括内侧面和外侧面，所述第二门板位于所述内侧面一侧且和所述第一门板间隔形成安装空间，所述第二门板在所述内侧面所在平面上的正投影位于所述内侧面上，

位于所述安装空间内的所述内侧面上设置有加热板，

连接杆活动穿设所述第一门板连接所述第二门板，所述外侧面上设置有导杆，调节板滑动设置在所述导杆上，所述连接杆连接所述调节板，

所述调节板和所述外侧面之间设置有驱动气缸，所述驱动气缸连接所述调节板。

本实用新型实施方式中，用于原子层沉积装置的双层门体组件和大小双腔室结构配合形成密封加工空间时，第一门板和大腔室紧密接触，驱动气缸带动调节板运动，进而带动第二门板向远离第一门板的方向，也就是靠近位于大腔室里的小腔室方向运动，使第二门板和小腔室接触更紧密，提高小腔室内部的密封性，保证加工质量。

在某些实施方式中，所述第二门板远离所述第一门板的一侧设置有密封圈。

在某些实施方式中，所述加热板通过固定杆和所述内侧面间隔设置。

在某些实施方式中，所述固定杆上设置有反射屏，所述加热板设置在所述反射屏上。

在某些实施方式中，所述加热板完全位于所述反射屏上。

在某些实施方式中，所述第一门板和所述调节板之间的所述连接杆上套设有波纹管，所述波纹管和所述第一门板、所述调节板固定连接，所述波纹管可伸缩。

在某些实施方式中，所述导杆末端设置有限位块，所述导杆上设置有限位板，所述限位板和所述限位块之间设置有弹簧垫圈。

在某些实施方式中，所述驱动气缸为薄形气缸。

本实用新型实施方式的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本实用新型的实践了解到。

附图说明

本实用新型的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施方式的描述中将变得明显和容易理解，其中：

图1是本实用新型实施方式的用于原子层沉积装置的双层门体组件的立体结构示意图；

图2是本实用新型实施方式的用于原子层沉积装置的双层门体组件的平面结构示意图；

图3是本实用新型实施方式的用于原子层沉积装置的双层门体组件的局部平面结构示意图；

图4是本实用新型实施方式的用于原子层沉积装置的双层门体组件的局部剖面结构示意图。

具体实施方式