[实用新型]一种新型光刻版

说明书

本实用新型公开了一种新型光刻版，包括光刻版本体；所述的光刻版本体设有光刻图像区，光刻图像区边缘设有防漏电结构，所述的防漏电结构为梯形边缘，梯形边缘设有最高边缘，最高边缘两端设有对称的阶梯边缘，分别为左侧阶梯边缘和右侧的阶梯边缘，左侧阶梯边缘和右侧阶梯边缘形状、结构相互对位镜像。通过对光刻版图形重新设计，在最边缘位置原有图形的基础上，增加一规则图形。通过增加的规则图形，避免了光刻版中正常图形边缘一圈造成的漏电打火现象。

技术领域

本实用新型涉及工业生产设备领域，确切地说是一种新型光刻版。

背景技术

根据原有光刻版设计的图形，在实际生产中，非常突出的表现为最边缘一圈芯片，在测试探针台上进行电性测试时，极其容易出现漏电打火现象，造成最边缘一圈芯片电性不良，良品率明显降低，增加生产成本。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是根据原有光刻版设计的图形，在实际生产中，非常突出的表现为最边缘一圈芯片，在测试探针台上进行电性测试时，极其容易出现漏电打火现象，造成最边缘一圈芯片电性不良，良品率明显降低，增加生产成本。

为解决上述技术问题，本实用新型采用如下技术手段：

一种新型光刻版，包括光刻版本体；所述的光刻版本体设有光刻图像区，光刻图像区边缘设有防漏电结构，所述的防漏电结构为梯形边缘，梯形边缘设有最高边缘，最高边缘两端设有对称的阶梯边缘，分别为左侧阶梯边缘和右侧的阶梯边缘，左侧阶梯边缘和右侧阶梯边缘形状、结构相互对位镜像。通过对光刻版图形重新设计，在最边缘位置原有图形的基础上，增加一规则图形。通过增加的规则图形，避免了光刻版中正常图形边缘一圈造成的漏电打火现象。

作为优选，本实用新型更进一步的技术方案是：

所述的光刻版本体设有支撑架，支撑架中部设有置物腔体，置物腔体边缘设有真空梯形槽和真空环槽，支撑架上部设有光刻板区，支撑架底部设有支撑结构。通过设置针对本设置光刻板设计的支撑架，支撑效果好，光刻效率高。

所述的置物腔体内可以放置硅片。

所述的真空梯形槽设置在真空环槽内。通过设真空槽的设置，减少打火情况。

所述的支撑架为长方形结构，支撑架上部设有环形支撑面，支撑架的下部设有长方形的支撑座。

所述的支撑结构为支撑底座，所述的支撑底座的数量为四个，分别位于支持架底部的四个边角。

所述的支撑架底部设有真空梯形槽和真空环槽的连通接口。

本实用新型通过对光刻版图形的重新设计，彻底解决了行业中长期存在的边缘一圈容易出现打火漏电现象，极大、直接的提高了产品的良品率。支撑架为合金材质特殊的边缘结构，在配合真空处理槽体，减少打火漏电的概率，提高产品质量，提升工作效率。

附图说明

图1为本实用新型的光刻版本体的结构示意图。

图2为本实用新型的支撑架的俯视图。

图3为本实用新型的支撑架的剖视图。

附图标记说明：1－光刻版本体；2－光刻图像区；3－梯形边缘；4－最高边缘；5－阶梯边缘；6－支撑架；7－真空梯形槽；8－真空环槽内；9－支撑面；10－支撑座；11－连通接口；12－置物腔体。

具体实施方式

下面结合实施例，进一步说明本实用新型。